pH值对电沉积PbS薄膜结构和性能的影响.pdf

人 工 晶 体 学 报 v01．38 第38卷第1期 N0．1 pH值对电沉积PbS薄膜结构和性能的影响 韩 文1，曹丽云2，黄剑锋2 (I．陕西科技大学化学与化工学院，西安710021；2．陕西科技大学材料科学与工程学院，西安710021) 摘要：采用阴极恒电压法在ITO导电玻璃表面沉积了PbS薄膜，并用x射线衍射仪(XRD)、原子力显微镜(AFM) 以及傅立叶变换红外光谱仪(FT．IR)对薄膜的结构和光学性能进行了表征，研究了沉积液pH值对薄膜的相组成、 min，加入EDTA作络合剂的情况 显微形貌以及光学性质的影响。结果表明：在U=3V，pH=2．4，沉积时间为20 下，可制备出沿(1II)和(200)晶面取向生长的立方相PbS薄膜。薄膜均匀而致密，随pH值增加，薄膜的压应力及 禁带宽度呈现先减小后增大的变化趋势。所制备的微晶PbS薄膜的禁带宽度约为0．38—0．39eV。 关键词：PbS薄膜；电沉积；pH值；光学性能 中图分类号：0484 文献标识码：A Influenceof ValueonPbSThinFilms pH Preparedby HAN Wenl，CAOLi．yun2，HUANG Jian-fen92 ofScienceand andChemical Technology，Xi，蛐710021，China； (1．CollegeofChemistry Enginecfing，ShaanIiUniversity of and 2．SchoolofMaterialsScienceand Science Engineering．ShaanxiUniversity Technology，Xihn710021，China) (威蒯212008) July thinfilmswere onITOsubstratesa constant cathodic Abstract：PbS prepared using voltage thinfilmswerecharacterizeddiffraction(XRD)， electrodepositionprocess．Thedeposited byX—ray infrared influencesof atomicforce Fouriertransformspectrometer(FT—IR)．The microscopy(AFM)and solutionvalueonthe and ofthe depositionpH phasecompositions，surfacemorphologiesopticalproperties