深振幅Al调制靶的化学腐蚀制备工艺研究.pdfVIP

　第 17 卷 　第 9 期 强 激 光 与 粒 子 束 Vol . 17 ,No . 9 　 　2005 年 9 月 H I GH PO W ER L A SER AND PA R T ICL E B EA M S Sep . ,2005 　 文章编号 : 　100 14322 (2005) 深振幅 Al 调制靶的化学腐蚀制备工艺研究 孙 　骐 , 　周 　斌 , 　杨 　帆, 　沈 　军, 　吴广明 ( 同济大学 波耳固体物理研究所 , 上海 200092) 　　摘 　要 : 　介绍了用于惯性约束聚变分解实验的铝调制靶的制备 。以半导体光刻工艺结合化学腐蚀工艺 μ 在铝箔表面引入周期为 50 m 的条槽图形 ,研究腐蚀条件对腐蚀速率的影响 ;采用光学显微镜 、扫描电镜和台 μ μ 阶仪对图形形貌和样品表面成分进行测量和分析 ,获得厚度在 32 m 左右 、腐蚀深度达到 20 m 的铝调制靶 。 　　关键词 : 　惯性约束聚变 ; 　铝调制靶 ; 　化学腐蚀 　　中图分类号 : 　O484 . 5 　　　　文献标识码 : 　A ( ) ( ) 　　在惯性约束聚变 ICF 实验中 ,瑞利泰勒 RayleighTaylor ,RT 不稳定性是制约实验点火成功与否的重 要因素之一 。为了达到点火条件 ,必须将 RT 不稳定性导致的靶丸内外表面的不均匀性增长控制在允许的范 围内。精密化分解实验是研究 RT 不稳定性的重要手段 。在箔靶表面引入调制图形来模拟靶丸表面的不均 匀性 ,通过测量激光对靶烧蚀过程中靶密度扰动的时空分布非线性增长 ,结合 X 射线背景照明技术诊断 ,可获 [ 1 ] ( μ ) 得 RT 不稳定性增长的信息 。随着精密化分解实验的深入 ,要求在具有大周期 、深振幅 振幅 20 m 的调 制靶型上进行实验以更精确地测定 RT 不稳定性的增长 。传统的离子束刻蚀制备工艺因为使用掩模方式进 行刻蚀 ,掩模和被刻蚀区同时遭到刻蚀剥离 ,因此限制了被加工材料的刻蚀深度 , 同时再淀积效应与侧向刻蚀 ( ) 又会导致图形形变 ,难以达到要求的图形精度 。美国洛斯阿拉莫斯实验室 L ANL 的 Schapp ert 等人使用金 ( ) μ μ 刚石车削与电火花加工 EDM 技术已获得了周期 150～160 m 、振幅 30 m 的尖峰形调制的铜靶 ,靶厚度为 [2 ] μ 15 m ,并进行了相应的分解实验 。 　　铜是一种重元素 ,使用铜靶会对激光器的功率密度提出较高要求 ,而铝为轻元素 ,则不会有这方面的限制 。 另外 , 由于 X 光激光的单色性 、短脉冲和高强度 ,非常适合作为研究激光辐照在靶面所留下印记的探测光 , 国 内也已