孪生对靶直流磁控溅射制备ZnOAl薄膜及其特性研究.pdfVIP

维普资讯 第35卷 第4期 人 工 晶 体 学 报 V01．35 No．4 2006年 8月 JOURNAL OF SYNTHETIC CRYsTALS August，2006 孪生对靶直流磁控溅射制备 ZnO：AI薄膜 及其特性研究 李 微，孙 云，何 青，刘芳芳，李凤岩 (南开大学光电子薄膜器件与技术研究所，天津300071；天津市光电子薄膜器件与技术重点实验室，天津300071) 摘要 ：本文以ZnO：A1(ZAO)陶瓷为靶材，采用孪生对靶直流磁控溅射工艺在玻璃衬底上制备出高质量的铝掺杂氧 化锌透明导电膜，研究了该薄膜的结构、光电及力学特性。采用孪生对靶制备ZAO薄