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谈谈光成像抗蚀抗电镀油墨的应用和选择 谈谈光成像抗蚀抗电镀油墨的应用和选择 光成像抗蚀抗电镀油墨（以下简称湿膜）是上世纪九十年代初出现的用于电路板制造的新型抗蚀抗电镀掩膜材料。当时原电子部的技术领导和部门作为一种新工艺在行业内推广，而且还组织专业人员赴首先使用的厂家桂林无线电五厂进行参观和组织专业学习。十几年过去了，湿膜以它优良的抗蚀抗电镀性能、高分辨率和多种涂布形式（辊涂、帘涂、网印、喷涂等）以及设备的通用和廉价等著名的有点，在电路板行业得到广泛的应用。湿膜的普及应用表明了图形转移工艺的发展，进入了一个新的里程，为细线的制造提供了理想的掩膜材料，推动了集成电路合微电子技术的发展是电路材料发展的重大成就。近几年来由油墨商的热情服务和大力推广，在标牌、面板、装饰画的制造中也都使用湿膜，收到了很大的效果。到目前为止，印刷、建材和有关领域也正在使用，其发展的速度是惊人的。 1、湿膜的耐蚀性和用于多种掩膜 1.1耐多种酸性蚀刻液 湿膜的突出一点就是耐多种酸性蚀刻液：酸性氯化铜蚀液、三氯化铁蚀刻液、硝酸系列蚀刻液、硫酸双氧水蚀刻液。这些蚀刻液除用于电路板的蚀刻液外，有的还用于钢铁、不锈钢、铝标牌、面板的蚀刻。 1.1.1耐碱性蚀刻液 在双面板及多层板的外层蚀刻时均以镀层做为抗蚀层，而蚀刻液为碱性氯化铜蚀刻液。在多层板的内层生产中，多以湿膜做掩膜制造图型。因铜层较