金属薄膜的制备.docVIP

金属薄膜的制备与工艺研究 制备薄膜材料的物理方法很多，但大致可分为二大类，化学方法（包括电化学方法）和物理方法。化学方法包括：化学气相沉积法（CVD）、液相生成法、氧化法、扩散法、电镀法等。物理方法包括：真空热蒸发法、直流溅射、磁控溅射法、射频溅射、脉冲激光沉积、分子束外延生长法等薄膜的制备方法。本实验采用直流溅射法、真空热蒸发和磁控溅射法制备金属薄膜。 【实验目的】 1．学习溅射镀膜的方法，初步了解薄膜形成的机理； 2．了解真空系统的结构和真空测量技术的基础知识，掌握机械泵、扩散泵的工作原理及操作规程； 3．学习直流溅射制备金属薄膜的原理和方法； 4．学习真空热蒸发和磁控溅射法制备金属薄膜的原理和方法； 5．研究制备工艺对薄膜性能的影响。 【实验原理】 一、真空的获得和测量 “真空”是指低于一个大气压的气体状态。在真空技术中，以“真空度”来表示气体的稀薄程度，真空度越高，气体压强越低。通常气体的真空度直接用气体的压强来表示，常用单位为帕斯卡(Pa)或毫米汞柱(mmHg)——简称乇(Torr)，它们之间的关系为： 1 毫米汞柱(mmHg)=1乇(Torr)=133帕斯卡(Pa)习惯上将真空度分为低真空（100 Pa～10-2 Pa），高真空（10-3 Pa～10-6 Pa）和超高真空（10-6Pa）。 真空系统的种类繁多，可以说几乎没