高折射率薄膜的化学法制备及其多层反射膜的探索的研究.pdf

摘要 摘要 溶胶一凝胶镀膜法是目前常用于制备高折射率薄膜的新型技术。与传统物理 气相沉积镀膜法(PVD)相比，溶胶一凝胶法制备的高折射率薄膜具有易于控 制的纳米多孔结构、可调的折射率、较高的激光损伤阈值等优点。此外，溶胶 一凝胶法镀膜设备简单、易于操作，可以在大尺寸以及各种形状不规则的基底 上进行，成本低廉，适合工业化大规模生产。 本论文基于溶胶一凝胶镀膜工艺，研究了二氧化铪(Hf02)以及二氧化锆 (z幻2)溶胶的制备工艺，探讨了制备过程中的各因素对溶胶性能的影响，成 功制备了具有纳米多孔结构的二氧化铪(Hf02)以及二氧化锆(Zr02)高折射 率薄膜，对高折射率薄膜的微结构和特性进行了表征，实现了高折射率薄膜的 性能改进和制备工艺优化。在采用膜系设计软件进行理论设计的基础上，探索 研究高折射率薄膜在全介质多层反射膜中的应用。 论文第1章介绍了本研究工作的研究背景、意义和现状，介绍了溶胶一凝 胶技术的历史发展、化学过程、影响因素、优势和不足以及主要应用，并重点 介绍了几种常用的溶胶一凝胶镀膜工艺的原理、操作和应用现状。 论文第2章首先介绍了水热法制备Hf02以及Zr02溶胶主要化学反应机理。 结合激光粒度分析仪以及透射电子显微镜，本章着重研究了水热合成工艺参数 包括合成时间、温度、pH值、高压釜的填充度以及前驱体浓度对溶胶形貌的影 响，获得了采用水热合成法制备稳定的Hf02以及Zr02溶胶优化工艺参数。通过 对优化工艺条件下制备的溶胶进行颗粒度的表征，探讨了溶胶在长期贮存中的 稳定性。通过分馏工艺，成功将Hf02以及Zr02水溶胶的溶剂替换乙二醇甲醚， 降低了溶胶溶剂的表面张力。接着，本章介绍了以有机盐为前驱体制备Zr02溶 胶的溶胶．凝胶工艺，分析了有机法制备的Zr02溶胶的反应机理，对溶胶进行了 表征和稳定性分析。 论文第3章详细介绍了溶胶一凝胶法制备高折射率薄膜的工艺流程，重点 分析了高折射率薄膜的理化特性。结合反射式扫描椭偏光谱仪以及红外分光光 度计，分析了镀膜工艺、有机粘结剂聚乙烯吡咯烷酮(PVP)的添加以及热处理 工艺对Hf02以及Zr02薄膜折射率的影响，成功实现高折射率薄膜折射率的调 节。通过对Hf02以及Zr02干凝胶粉体进行热失重分析与晶态分析，获得了薄膜 摘要 合理的热处理温度。结合采用原子力显微镜对Hf02和Zr02薄膜进行表面形貌表 征，研究薄膜后处理工艺以及有机粘结剂的添加对薄膜表面形貌的影响，获得 了表面粗糙度Ra低于lnm的高折射率薄膜。通过研究有机粘结剂的添加、无机 材料复合、热处理工艺以及紫外辐照对高折射率薄膜抗激光损伤性能的影响， 获得了提高高折射率薄膜激光损伤阈值的有效途径，成功制备了激光损伤阈值 超过40 工艺制备Hf02高折射率薄膜的一般标准，为进一步大规模工业化量产奠定了基 础。 ． 论文第4章以多层高反膜的膜系理论为基础，利用软件EssentialMacloed对 density的概念模拟了多孔薄膜， 光学多层介质反射膜作了理论设计：用packing 实现了材料折射率的可调节；利用反射率增幅分析与膜层制备难度分析Relative Sensitivity来选择理想的膜系设计；通过计算分析了传统的四分之一波长膜系的 光学特性，包括薄膜的反射率曲线，膜层的驻波场分布，入射角变化对膜层反 射率曲线的影响，镀膜过程中的随机误差对膜层反射率曲线的影响；通过计算 分析了非四分之一波长膜系的光学特性，包括高折射率膜层的光学厚度对薄膜 反射带分布的影响，对膜层驻波电场的分布的影响。 论文第5章对化学法制备多层反射膜的工艺进行了探索。通过镀膜工序以 及热处理方式的优化，制备中心波长处反射率为98．5％的lif02／Si02多层反射膜。 通过改善热处理工艺、溶剂替换以及紫外光修饰等手段改善了多层反射膜的特 性。研究了不同高、低折射率膜层匹配以及膜层叠加对多层反射膜性能的影响。 的差异，采用膜系设计软件EssentialMacloed分别建立模型模拟膜层收缩、膜层 折射率变化以及膜层相互渗透对多层反射膜反射率曲线的影响，证明应对理想 的理论模型进行修正后设计膜堆结构，为化学法镀制多层膜提供合理的理论依 据。 论文第6章为本工作的总