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32nm工艺技术;32nm工艺有哪些引人关注的工艺？;1.193nm浸没式光刻;1.193nm浸没式光刻;1.193nm浸没式光刻;2.1浸没液体（积淀、气泡、光吸收）;在大多数波段水的折射率为1.33左右，而在193nm 附近，水的折射率高达1.437。水在193nm波段的吸收系数很低，仅为0.035/cm。光刻机的生产率与照明光的透射率成正比，因此为了减小水对光的吸收，水层的厚度不能太大。 另外，还要考虑水层的厚度对扫描速度的影响。在500mm/s 的扫描速度下，水层的厚度应该控制在1~2mm。;1.2.2液体浸没方式(局部浸没法); 硅片浸没法示意图; 工件台浸没法示意图 ; 局部浸没法示意图;局部浸没法可以解决硅片浸没法和工件台浸没法存在的一些问题。局部浸没法中投影物镜是固定的，最后一个透镜的下表面始终浸没在液体中。在步进扫描过程中，硅片的不同部位浸没在液体中。 在硅片的一侧设置一个喷嘴，将液体注入到镜头下面，在另一侧设置一个吸嘴将液体吸回，形成液体的流动。这种结构也被称为喷淋结构。 ;局部浸没法的优点： 1) 工件台本质上与干式系统相同，这样将节省研发成本和 时间； 2) 可以保留干式光刻系统的对准系统和调焦调平系统； 3) 注入的液体容量比较小，可以快速注满和排空，保持了 较高的生产率