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北京光学行业去离子水设备工艺介绍 　　光学行业去离子水设备介绍 　　LTLD系列去离子水设备取市政自来水为源水，流经介质过滤器，活性碳过滤器，钠离子软化器、精密过滤器等预处理系统、RO反渗透主设备系统、离子交换混床(或EDI电除盐系统)系统等处理，产水电阻值可达到0.5-18 MΩ.CM。 　　LTLD系列光学去离子水设备典型工艺 　　预处理系统-反渗透系统-中间水箱-粗混合床-精混合床-纯水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-抛光混床-精密过滤器-用水对象 (≥18MΩ.CM)(传统去离子水设备工艺)。 　　预处理-反渗透-中间水箱-水泵-EDI装置-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-抛光混床-0.2或0.5μm精密过滤器-用水对象(≥18MΩ.CM)(最新去离子水设备工艺)。 　　预处理-一级反渗透-加药设备(PH调节)-中间水箱-第二级反渗透(正电荷反渗膜)-纯水箱-纯水泵-EDI装置-紫外线杀菌器-0.2或0.5μm精密过滤器-用水对象(≥17MΩ.CM)(最新去离子水设备工艺)。 　　预处理-反渗透-中间水箱-水泵-EDI装置-纯水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-0.2或0.5μm精密过滤器-用水对象(≥15MΩ.CM)(最新去离子水设备工艺)。 　　预处理系统-反渗透系统-中间水箱-纯水泵-粗混合床-精混合床-紫外线杀菌器-精密过滤器-用水对象 (≥15MΩ.CM)(传统去离子水设备工艺