znoal明导电薄膜的自由基辅助 磁控溅射制备工艺及性能表征.pdfVIP

摘要 摘 要 透明导电 ZnO:Al (AZO)薄膜因其优异的电学和光学性能而被应用于太阳能 电池和平板显示等领域。AZO 透明导电薄膜因其原材料丰富且无毒性，是取代 ITO 成为下一代透明导电材料的有力竞争者。自由基辅助溅射镀膜机(Radical Assisted Sputtering Coater ，简称RAS)是一种新型的镀膜机，它在高沉积速率、 低成本、工业化生产方面具有突出的优势。因此，研究利用 RAS 制备透明导电 AZO 膜的工艺参数，具有重要的工业应用意义。本论文研究了溅射靶材、氧分 压、Al 含量、溅射功率以及退火条件等工艺参数对 AZO 薄膜的结构与性能的影 响，研究了利用自由基辅助磁控溅射法制备透明导电 AZO 薄膜的工艺，并对获 得的 AZO 薄膜进行了表征。 本论文内容分为五章，具体如下： 第一章 介绍了透明导电薄膜的分类及其研究历史，介绍了 ZnO:Al 薄膜的 常用制备方法以及利用自由基辅助溅射法制备 AZO 薄膜的优势。此外，还介绍 了在磁控溅射镀膜过程中影响工艺稳定性的各种因素。 第