氧化银薄膜制备和相关性质研究.pdfVIP

摘要 摘要 近年来，氧化银(AgxO)由于在光存储和磁光存储方面的潜在应用受到了 越来越多的关注。其在光存储和磁光存储的应用主要是基于它的热分解效应。 目前由于双相的AgxO薄膜的热分解的临界温度偏高(约4000)，这已成为其 未来产业化应用的瓶颈。制备单相A920薄膜降低热分解临界温度(1YrDT)当前 研究的热点。 基于此，本文利用直流磁控溅射技术(DC sputtering)，通过改变沉积参数(反 应气压和溅射功率)制备Ag。O薄膜，摸索制备单相A920薄膜的工艺参数。采 用传统的真空环境下热处理技术，研究单相A920薄膜的热分解过程及其TTDT 值。在整个的研究过程中主要利用扫描电子显微镜，x射线衍射和分光光度计研 究了沉积参数和热处理温度对AgxO和单相AgaO薄膜的结构、表面形貌和光学 性质的影响。取得的主要研究结果如下： 均呈现了从两相 Pa和SP=105 的演变。特别在RP=2．5 W时分别制备了单相的A920薄膜。从 而有效降低了Ag,O薄膜的TTDT。该创新性结果对解决A良O薄膜在新型光盘 和磁光