氮化钛薄膜制备及其光、电性能的研究.pdfVIP

摘要 摘要 氮化钛(TiN。)是过渡金属氮化物，它由离子键、金属键和共价键混合而成， 它独特的电子结构所表现出高硬度、高熔点、化学稳定性高以及优良导电性能 和红外波段较高光学反射率使它在切削工具、装饰和抗摩擦等方面得到越来越 广泛的应用和研究。其中TiN。薄膜的高硬度、耐热、耐磨、耐腐蚀性在国内外 已经得到了广泛的研究，TiN。薄膜的电学和光学性能方面有待进一步的深入研 究。 本文采用直流反应磁控溅射法在P型Si(111)基底上制备TiN。薄膜，采用单 参数变化法研究工艺参数对所制备的TiN。薄膜的结构和电学、光学特性的影响。 分别改变腔体气压、基底温度、氩气／氮气流量比和溅射电流四个工艺参数制各 样品，并用X射线衍射(XRD)分析样品的物相，原子力显微镜(AFM)分析 薄膜的表面形貌，台阶仪测量TiNx薄膜厚度，四探针测试仪测量薄膜的方块电 阻和紫外可见分光光度计测定薄膜的反射率。研究了这四个工艺参数对TiN。薄 膜组分、结晶取向、表面形貌、导电性能以及可见．近红外波段光学反射率的影 响，主要工作内容包括以下几个方面： 1．腔体气压对TiNx薄膜结构与性能的影响 在其它工艺参数不变的情况下，改变腔体气