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去PSG作业指导书
江西天能电力股份有限公司
文件类型:作业指导书 文件编号: 版本号: 编制部门:技术部 生效日期: 页码: 标题: 去PSG工艺作业指导书
目的
清洗掉硅片在扩散时在表面生成的磷硅玻璃。
适用范围
2.1除去硅片表面磷硅玻璃及其后甩干(125mm*125mm和156mm.*156mm)
2.2生产线工人对机器的操作,以及对原材料的使用;
2.3生产中的注意事项以及要求。
2.4适用于无锡瑞能公司生产的全自动去磷硅玻璃清洗机。
定义
磷硅玻璃:在扩散过程中发生反应,POCl3分解产生的P2O5淀积在硅片表面,P2O5与Si反应生成SiO2和磷原子,这样就在硅片表面形成一层含有磷元素的SiO2,称之为磷硅玻璃。
职责
4.1所有操作人员都必须严格按照文件进行操作;
在操作过程中遇到问题应及时向相关工程师反应,相关工程师及时提供帮助确认各槽控制系统工作正常,程序准确,时间设定准确。
确认投入作业的硅片的型号、批号、数量正确。
。
确认投入作业的硅片的型号、批号、数量、工序。
等刻检查合格的硅片装入片架内。将插满硅片的片架按顺序平稳地放入清洗花篮内。
5.2.5用双手将放有硅片的清洗花篮放入送料口。
再检查一遍运行程序正常,。
四槽清洗机运行时,随时查看运行状况,确保运行正常。
双手操作,取出清洗花篮,放入推车内运至甩干机甩干。
5.2.10正确填写好流程卡及碎片数。
L
NH4F:0.7L
流动去离子水清洗
流动去离子水清洗
N2鼓泡
去离子水喷淋清洗
目的
去除表面氧化层,注意避光
去除腐蚀液
去除腐蚀液
去除腐蚀液
注:每隔小时更换槽清洗液
(℃)
工作气体压力(MPA)
清洗环节
烘干环节
压缩空气
氮气
时间(S)
转速(RPM)
时间(S)
转速(RPM)
120±10
0.5~0.6
0.5~0.6
120
350-400
300-330
400-550
7注意事项
7.1配制酸液时,必须按酸、碱清洗要求穿戴好相关的个人防护用品。
检查各槽的显示时间要正确,否则汇报工序负责人解决。操作时必须安全使用化学试剂及安全使用清洗机。磷扩散的正面面向片架的背面推车上层只允许放清洗,同时注意储水桶内的水及时倒掉,保持车子的清洁。
工 具、夹 具
名 称
规 格 或 代 号
名 称
规 格 或 代 号
四槽清洗机
推车
JX0400型
特制
清洗花篮
片架
周转箱
特制
125×125
M891001
材 料 名 称
规 格
动 力
等刻后的硅片
HF
HN4F
去离子水
125×125mm
分析纯
分析纯
≥13MΩ
电源: 3N-380V-50HZ
自来水:
氮气压力:≥×105Pa
压缩空气:≥105Pa
温度:(25±3)℃
工艺卫生等级
预 防 措 施
清洁
穿戴工作服、帽、口罩、防护眼镜
防护工作服
塑胶围裙
一次性手套
11附件
《集成流程卡》
《去PSG班前检查表》
《去PSG工序记录单》
《去PSG工序巡检表》
《清洗化学品领用登记表》
编制 审核 批准
去PSG工艺作业指导书 文件编号:
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