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去PSG作业指导书

江西天能电力股份有限公司 文件类型:作业指导书 文件编号: 版本号: 编制部门:技术部 生效日期: 页码: 标题: 去PSG工艺作业指导书 目的 清洗掉硅片在扩散时在表面生成的磷硅玻璃。 适用范围 2.1除去硅片表面磷硅玻璃及其后甩干(125mm*125mm和156mm.*156mm) 2.2生产线工人对机器的操作,以及对原材料的使用; 2.3生产中的注意事项以及要求。 2.4适用于无锡瑞能公司生产的全自动去磷硅玻璃清洗机。 定义 磷硅玻璃:在扩散过程中发生反应,POCl3分解产生的P2O5淀积在硅片表面,P2O5与Si反应生成SiO2和磷原子,这样就在硅片表面形成一层含有磷元素的SiO2,称之为磷硅玻璃。 职责 4.1所有操作人员都必须严格按照文件进行操作; 在操作过程中遇到问题应及时向相关工程师反应,相关工程师及时提供帮助确认各槽控制系统工作正常,程序准确,时间设定准确。 确认投入作业的硅片的型号、批号、数量正确。 。 确认投入作业的硅片的型号、批号、数量、工序。 等刻检查合格的硅片装入片架内。将插满硅片的片架按顺序平稳地放入清洗花篮内。 5.2.5用双手将放有硅片的清洗花篮放入送料口。 再检查一遍运行程序正常,。 四槽清洗机运行时,随时查看运行状况,确保运行正常。 双手操作,取出清洗花篮,放入推车内运至甩干机甩干。 5.2.10正确填写好流程卡及碎片数。 L NH4F:0.7L 流动去离子水清洗 流动去离子水清洗 N2鼓泡 去离子水喷淋清洗 目的 去除表面氧化层,注意避光 去除腐蚀液 去除腐蚀液 去除腐蚀液 注:每隔小时更换槽清洗液 (℃) 工作气体压力(MPA) 清洗环节 烘干环节 压缩空气 氮气 时间(S) 转速(RPM) 时间(S) 转速(RPM) 120±10 0.5~0.6 0.5~0.6 120 350-400 300-330 400-550 7注意事项 7.1配制酸液时,必须按酸、碱清洗要求穿戴好相关的个人防护用品。 检查各槽的显示时间要正确,否则汇报工序负责人解决。操作时必须安全使用化学试剂及安全使用清洗机。磷扩散的正面面向片架的背面推车上层只允许放清洗,同时注意储水桶内的水及时倒掉,保持车子的清洁。 工 具、夹 具 名 称 规 格 或 代 号 名 称 规 格 或 代 号 四槽清洗机 推车 JX0400型 特制 清洗花篮 片架 周转箱 特制 125×125 M891001 材 料 名 称 规 格 动 力 等刻后的硅片 HF HN4F 去离子水 125×125mm 分析纯 分析纯 ≥13MΩ 电源: 3N-380V-50HZ 自来水: 氮气压力:≥×105Pa 压缩空气:≥105Pa 温度:(25±3)℃ 工艺卫生等级 预 防 措 施 清洁 穿戴工作服、帽、口罩、防护眼镜 防护工作服 塑胶围裙 一次性手套 11附件 《集成流程卡》 《去PSG班前检查表》 《去PSG工序记录单》 《去PSG工序巡检表》 《清洗化学品领用登记表》 编制 审核 批准 去PSG工艺作业指导书 文件编号:

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