光电材料的偏光谱和电光性质的研究.pdf

摘要 本论文介绍了椭偏光谱技术的反射和透射两种测量分析方法。利用了椭偏 光谱的反射方法分析测量了几种光电薄膜材料的光学常数谱和薄膜的厚度，以 及对薄膜的成分进行分析；利用透射椭偏测量的方法测量了薄膜的电光系数， 得到了利用椭偏仪测量计算电光系数的公式。椭偏光谱技术主要是通过对光波 的相位和振幅的改变，理论模型的拟合得到其光学常数和电光系数。除主要作 椭偏光谱测量外也结合了一些其它的测量手段，如x射线衍射实验(XRD)、 拉曼光谱(Raman)和原子力显微分析(AFM)等进行了分析。 下面具体介绍一下本论文的主要内容： 1． 首先回顾了椭偏光谱技术发展历史以及当前的一些主要应用；系统的 介绍了椭偏光谱技术的测量原理和几种常用的光学模型；介绍了测量时使用的 消光椭偏仪和调制式椭偏仪的反射和透射测量原理。 2．利用椭偏光谱法研究了非晶碳薄膜的sp3 c两种键结构组成和 c与sp2 光学性质。利用磁过滤真空离子溅射系统，改变加在单晶S《100)衬底上的衬底 偏压，可以得到不同sp3c键与sp2键比例的非晶碳薄膜。采用五参数模型和有 C与sp2c两种键结构组成的非晶碳薄膜的光学性质 效介质模型研究了不同sp3 C两种键成分 和薄膜厚度；利用有效介质模型研究了非晶碳薄膜的sp3c与sp2 组成，并且和Raman测量结果进行了比较，结果基本一致，表明椭偏光谱测量 C与sp2C两种键结构组成。 能够有效的分析非晶碳膜的sp3 3． 研究了不同厚度和不同结晶取向的PbzT03薄膜的光学性质，以及薄 膜的厚度和结晶取向对光学性质的影响。相对来说(111)取向的PbZr03薄膜 的折射率大于(100)取向的Pb盈03薄膜，另外利用溶胶凝胶制备薄膜的时候 相对厚的薄膜其折射率也相对的高了一些。利用多层薄膜拟合，也得出PbZrO， 薄膜表面粗糙层和衬底与薄膜之间的过渡层的厚度， 4． 研究了利用磁控溅射方法制备的InN薄膜，在不同的衬底温度下的生 长厚度的差异以及InN薄膜的光学性质。可以知道在其它划各条件一样的前提 下，衬底的温度高的时候相对的薄膜厚度也厚一些，而厚度对薄膜的光学性质 也有一定的影响。 5． 学性质。分析了每层的厚度以及光学常数，以及综合的整体多层薄膜的光学性 质。说明了椭偏分析对于多层的薄膜是很有效的。 6． 利用调制式的椭偏仪的透射测量的方法，测量分析了掺镧锆钛酸铅 (PLZT)透明薄膜的电光系数。首先利用反射椭偏测量的方法得到PM叮薄膜 的折射率和薄膜的厚度，然后再利用薄膜的透射在线测量的功能，得到薄膜在 加了直流电场后折射率的变化，PLZT薄膜在加了电场后具有克尔电光效应， 我们根据以上测量得到的数据计算得到PLZT的电光系数。调制式的椭偏仪灵 敏度非常高，很适合薄膜材料的电光系数的测量。 关键词：椭偏光谱，光学常数，电光系数，非晶碳薄膜，PbZr03薄膜，InN薄 膜，PLZT薄膜 Ⅱ and Ellipsometry Spectroscopic Studiesof materials optics-electro Matter Major：Condensed Physics Name：Li Fang Supervisor：Mo Dang Abstract In