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碳纳米管的备及其薄膜结构场发射实验研究

博士后出站报告 摘 要 自1991年电弧法合成碳纳米管以来,由于其准一维结构所导致的在电 学、力学及光学等诸多方面的奇异性质,被认为是继C60之后另一种十分重要的 碳的低维材料,可望在场发射平板显示器件、储氢燃料电池、高分子复合材料及 超级电容等应用领域取得突破。为适应碳纳米管在基础研究和工业发展两方面的 广泛应用,大规模、高质量碳管粉末及薄膜的合成成为研究热点。经过十多年的 发展,碳纳米管的合成方法日趋多样化,从最初的电弧法、化学气相沉积法发展 到今天的流动催化法。特别值得关注的是,流动催化法可以高质高量地合成碳管 粉末,为其多方面的应用打下基础。 本工作分为两个部分。第一章着重介绍本实验室采用流动催化法合成碳管 的实验过程。包括低压流动催化实验装置的建立及对各主要工艺参数的最优化探 索等等。有别于常规的流动催化法,本实验完全工作于低气压下,保证了实验的 安全性并降低了实验的成本。第二章介绍了四面体非晶碳膜影响碳管薄膜场发射 性能的厚度效应。通过大量的实验表征手段,证明四面体非晶碳膜可以沉积在碳 管薄膜的表面。进一步的场发射研究显示,较薄的碳膜能显著改善碳管的场发 射,而较厚的碳膜则抑制了碳管的场发射,并对这一现象给出了定性的解释。 博士后出站报告 第一章流动催化法合成碳纳米管粉末材料的工艺探索 1.1引言 自1991年碳弧法合成碳纳米管以来【l】,由于其准一维结构所导致的它在电 学、力学及光学等诸多方面的奇异性质,被认为是继C60之后另一种十分重要的 碳的低维材料,可望在场发射平板显示器件【2】、储氢燃料电池【3】、高分子复合材 料[4】及超级电容[5】等应用领域取得突破。为适应碳纳米管在基础研究和工业发展 两方面的广泛应用,大规模、高质量碳管的合成成为人们追求的重要目标。经过 十多年的发展,碳纳米管的合成方法日趋多样化,从最初的电弧法(are 法(ChemicalVaporDeposition)【7】。从产物形态来看,不仅能大量合成多壁碳管 (MWNTs)和单壁碳管(SWNTs)粉末,而且能制备出大面积碳管的薄膜,为实现其 在器件方面的应用打下基础。单以CVD法为例,目前广泛应用的包括热化学气 相沉积(TCVD)、热丝化学气相沉积(HFCVD)及等离子体增强化学气相沉积 (PECVD)等几类方法。值得一提的是,1998年,沈阳金属所的成会明等【8]受工业 生产碳纤维方法的启发,发展出一种新型的实验方法一流动催化法,可以大量合 成高纯度的且结构完美的SWNT粉末。这种方法的优越性在于,它相对于早前的 激光蒸发法制备SWNT而言,实验装置简单,生产成本显著降低,易于实现向工 业化生产的转化。这将使SWNT价格更为低廉,有助于进一步推动碳管的理论研 究以及在纳米电子学器件方面的应用研究。此后,沈阳金属所的Fan等【9】、清华 大学的朱宏伟等【10】应用类似的方法相继合成出高纯度的MWNT粉末,Y. junction碳管,双壁碳管∞WNTs)等不同形态的碳管,为研究碳管的生长机理和 构成碳管壁的石墨层间相互作用提供了可能。 从实验原理上来看,流动催化法也可以归为化学气相沉积法,不同之处在 于:常规的CVD法需要有一个固定的衬底,并且在其上预先制备了催化剂,生 成物只沉积在衬底上;流动催化法不需特定的衬底,催化剂也无须附着在固定的 博士后出站报告 位置,催化剂前驱体在输运的过程中分解并形成催化剂纳米颗粒。生成物可以直 接沉积在适宜其生长的反应器的内壁上。从反应器的结构来看,通常分卧式和立 式两类a卧式反应器通常采用鼓泡[1l】或泵压[12】的方式将液态的碳氢化合物(碳 源)送入反应室,而立式反应器则多采用从顶部喷淋碳氢化合物的形式[13】。 我们通过对相关文献所作的调研发现,尽管前人所用的实验方法不尽相 同,但它们有一个共同点,即所有这些反应都是在常压的实验条件下进行的,而 且反应温度基本上都在1000。C以上。为避免高温分解反应所可能导致的危险, 一般会在反应时通入大流量的惰性气体氩或者氩气与氢气的混合气体来提供保 护。这无疑会大幅度增加成本。 基于安全性和实验成本两方面的考虑,本实验室对常规的卧式系统进行了 适当的改造,添加了抽真空系统,使得流动催化反应可以在一定的真空度下进 行。这正是本实验工作的特色。但可能存在的不足是其沉积速率比常压下低,导 致产率较低。 1.2实验方面 1.2.1实验装置 本实验装置是由实验

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