siol;,2gt;的仿生合成及在药物控制释放中的应用.pdfVIP

摘 要 首先通过无皂乳液聚合技术，使苯乙烯(St)与甲基丙烯酰氧乙基三甲基氯 此微凝胶为模板，在中性的条件下，以四甲氧基硅烷(TMOS)为硅源，仿生沉 粒子的聚合物部分。FTIR表征证明了Si02确实在模板上发生了沉积，TEM及切 片结果证明Si02沉积在杂化纳米粒子的壳层。而且可通过改变试验条件实现对 杂化纳米粒子Si02壳层厚度的调控，这为我们下面的工作打下基础。 然后我们采用无皂乳液聚合技术，在甲撑双丙烯酰胺(MBA)为交联剂的 情况下，N一异丙基丙烯酰胺(NIPAM)与甲基丙烯酰氧乙基三甲基氯化铵(DMC) 研究证实了微凝胶粒子的低临界溶液温度LCST在34℃左右。进一步以此微凝 胶为模板，在中性的条件下，以四甲氧基硅烷(TMOS)为硅源，仿生沉积Si02， HNMR及TGA 生成Poly(NIPAM．CO．DMC)／Si02杂化纳米粒子。FTIR、TEM、1 等研究表明Si02在聚合物模板上发生了沉积。能谱分析进一步证明了Si02主要 分布在杂化纳米粒子的壳层区域。而且，当TMOS用量增加、矿化时间延长时， 所得到的杂化纳米粒子的Si02壳层厚度逐渐增加。