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误差扩散编码制作微光学元件 光学专业 研究生刘倩 指导教师郭永康 近年来，以微光学、微机械、微电子器件为核心的微系统发展迅速，具有 广阔的应用领域，将刈21．世纪的科学技术、生产方式和人类牛活质量产牛 深远影u向。1995年的美幽财政计划已将微系统视为直接关系国防与经济发展 的高新技术加以重点研究和发展。微小化、阵列化和集成化的光学元件和系 统在许多领域的应用，极大地引起了人们对微光学元件的关注。 微光学在设计理论和制作方法等方面也取得了长足的发展，并在航天、 光通信、光信息处理、激光加工等领域获得了广泛应用。为了进‘步扩大微 光学的应用领域，对其制作方法也就提出了更多和更高的要求。因此，研究 方便而有效的微光学元件制作新方法仍然是目前微光学发展的一个关键问 题。 同前一般采用多个_元掩模多次套刻的方法来制作连续微浮雕结构，用 量化的台阶去逼近理想的轮廓。但是，这种多次套刻的方法工艺流程复杂， 需要大型设备，而且每套刻‘次都会产生对准误差，套刻次数愈多，误差愈 严重，这种技术限制了微光学及微系统的发展。 本沦文以发展微光学元件制作新方法为目标，在现有的罗曼型灰阶编码 掩模技术的基础上，提出了误差扩散法编码狄阶掩模。误差扩散法同其他编 码方法相比，具有量化效果好、衍射效率高、制作文件小、计算速度快、通 剧性好等优点，将其用于设计捩阶编码掩模，以弥补罗曼型荻阶编码掩模编 码文件较大、计算速度较慢、优化方法繁琐等缺点。介绍了误差扩散理论及 扩散过程，并刈不同的偏置位置、不同的扩散权数以及扩散方向的计算全息 图的结果进行了比较，选择了合适的扩散法和权数对微透镜和微柱透镜的制 作过程进行了模拟。在掩模优化方面，提出了将预校于和边缘增强法相结合 的优化方法，以补偿成像过程及曝光显影过程中非线性因素引起的制作偏 差。最后给出r模拟结果，证明Tq用误差扩散法编码灰阶掩模制作微光学 冗件的可行。+|生。 关键词：灰阶编码掩模，误差扩散法，边缘增强，微光学元件 II FabricationofMicro Elementswith Optical Coding Mask Error-Diffusion Gray—toneDesignedby Method MajorOptics Liu PostgraduateQian Supervisor Guo Yongkang Inrecent havebeen years，micro—system advancein dramatically mechanicalandmicroelectronic willbe inextensive device，thatapplied fieldandwilleffect the modelof andthe technology，the of In1 productionliving qualitypeopledeeply995， thathad beenlookedasa andnew mi