二氧化硅纳粒子表面的分子印记识别和tnt的荧光探测.pdf

摘要 摘要 分子印迹技术(Molecularimprintingtechnology)是一种制备对特定分子具 有专一识别性能的聚合物的技术，分子印迹聚合物(molecularlyimprinted Polymers，MIP)对模板分子的识别具有构效预定性、特异识别性和广泛实用性 等优点。并且，基于分子印迹技术制备的分子印迹聚合物材料具有高亲和性和 选择性、抗恶劣环境能力强、稳定性好、制备成本低、使用寿命长，应用范围 广等优点而在分离提纯、免疫测定、生物模拟、仿生传感、催化、环境的痕量 分析、药物释放等以及相关领域显示出广阔的应用前景。 本文首先对分子印记技术的基本原理、分子印记聚合物的制备、分子印记 技术应用状况以及分子印记技术新发展和荧光发射能量转移机理进行了较为全 面的综述和评价，探讨了当前分子印记技术所面临的机遇和挑战。一种理想的 分子印记材料应该具备模板分子能完全除去，印记材料能后功能化，具有完整、 均一和稳定的印记位点，对目标分子具有高亲和力，快速结合动力学等特点。 但是通过传统方法制得的印记聚合物上大多数分子识别位点都包埋在高交联密 度的聚合物内部，从而导致了分子印记材料虽然具有较高的分子识别选择性， 袒具有结合容量低、位点可接近性差以及结合动力学慢的特点。因此，通过控 制印记位点位于合成印记材料表面，对提高印记位点的有效性和位点可接近性 具有十分重要的意义，作为一种可以选择的印记方法，纳米结构分子印记材料 具有较高的比表面积，印记材料上大多结合位点位于或接近材料表面，所以发 展合成纳米结构分子印记材料有望真正解决传统分子印记遇到的困难，以便进 一步推动分子印记技术的发展。本论文重点针对TNT分子识别与探测，运用纳 米技术、表面功能化设计和分子印记技术等手段，发展制备具有高密度印记位 点、高选择性、高亲和力和快速结合动力学的1NT印记芯．壳型纳米二氧化硅复 合物壳层，同时，探索纳米结构分子印记材料和荧光发射能量转移对痕量目标 分子D盯的识别特性和敏感机制。 二氧化硅成为关注的热点是因为其是工艺研究中重要的媒介材料。二氧化 硅材料功能化的提升促进了人们重新认识其性质的兴趣。丰富了我们对其基本 性质地理解，提升了当前存在应用特性。通过化学修饰方法使单分散的二氧化 摘要 硅凝胶纳米粒子作为表面纳米印记结构的印记模板分子的支撵体，因为二氧化 硅纳米粒子支撑体同有机材料的支撑体相比拥有明显的优点：(a)二氧化硅表面 可以修饰从而导致形成不同的硅烷化试剂，在这种无机物的结构中带有许多的 功能基团；(b在二氧化硅支撑体的表面被修饰上功能基团是相对容易的反应， 这点是不同于有机材料的支撑体；(c)在有机溶剂里二氧化硅支撑体并不溶胀； (d)对有机溶剂的化学惰性。(e)二氧化硅拥有很高的热稳定性；(f)粒径和 分散性可控。拥有一致粒径和形状的二氧化硅不仅在处理动态行为和粒子体系 稳定性的物理化学领域得到的广泛的应用，而且在分离、催化、陶瓷、涂料和 照相的感光乳液等工业上的应用。单分散二氧化硅粒子是在混合了醇、水和氨 水的条件下通过硅烷化试剂的水解和缩合反应制备。实验结果显示在以氨水为 催化剂、乙醇为溶剂正硅酸乙酯、水为反应物料通过水解和缩合反应可以制的 粒径和单分散的二氧化硅纳米粒子，有许多关于这个反应体系的机理研究。然 而，这里通过对影响因素的研究，如反应物TEOS、氨水和水的量以及反应温度 的变化来获得合适粒径和单分散的印记模板分子的支撑体二氧化硅纳米粒子。 随后，用两步化学修饰过程得到丙烯酰胺覆盖的二氧化硅粒子。首先，在氮气 气氛中惰性溶剂里APTS通过共价耦联N-氧化硅纳米粒子的表面。然后，富含 氨丙基的二氧化硅粒子表面通过与丙烯酰氯的酰化反应，得到表面富含丙烯酰 肢功能单体的二氧化硅粒子。修饰的粒子性质和形貌分别用SEM、TEM和FT-IR m 进行表征。 以耵盯分子为目标分析物，一种在二氧化硅纳米颗粒表面修饰功能单体诱 导策略对n盯分子高密印记。结果进一步证明了二氧化硅表面乙烯基单体层不 仅能够在二氧化硅表面通过乙烯基单体和功能单体的引导印记聚合，而且通过 TNT分子与功能单体层电荷转移形成复合物驱使TNT模板分子形成聚合物壳 层。这两种基本过程导致形成核．壳厚度一致的TNT印记的纳米颗粒，所得的芯 ．壳型分子印记聚合物的壳厚可调且拥有高密度的有效识别位点。一种渐进式聚 合反应被设计用来在二氧化硅表面制备可调控高质量TNT印记的聚合物。同传