席夫碱自组装膜铜的缓蚀作用.pdfVIP

摘要 饲的腐蚀与防护问题是腐蚀科学领域一个重要的研究课题。缓蚀剂由 f具有使用简单、用量少、效果好、经济安全等特点，近二三十年来发展 较快。席夫碱类化合物由于含有活性基团(一C=N．)对铜有很好的缓蚀作用。 自组装膜(Self-Assembled 起来的较为活跃的界面化学和材料化学的前沿领域。在电化学中，自组装 膜以其高度的有序性、致密性和稳定性为深入研究电子转移和表面电化学 等问题提供了良好的模型。 为了寻找合理、高效的铜缓蚀剂并从理论上对其机理进行探讨，我们 合成了‘系列的席夫碱类化合物，使其在铜表面自组装成膜，用电化学方 法探讨了咳系列席夫碱对铜的缓蚀作用。主要实验结论如下： ☆利用交流{¨}亢技术对成膜工艺条件(电极表面状态、成膜时间、成膜液 浓度)进行了探讨。实验结果表明：该类席夫碱是快速、高效的铜缓蚀 剂；席夫碱的最佳成膜条件为HN03法处理电极、lmM的席夫碱中成 膜2h。 ☆通过量子化学计算与实验探讨席夫碱结构与缓蚀性能的关系。结果表 明：所研究的系列席夫碱无论在5％的HCl溶液中，还是在3％的NaCI 溶液中对铜的缓蚀效率都表现出一定的规律：席夫碱的苯环上引入给电 子基团越多，对铜的缓蚀效率越高，并且给电子