氧化钒薄膜光电特性及其应用基础及研究.pdf

摘 要 本论文基于氧化钒薄膜的光学和电学特性从实验和理论两个方面展开了相关研 究。在试验上，论文主要围绕氧化钒薄膜的制备、氧化钒薄膜在红外探测器热敏层的 制备，以及在光开关和节能玻璃上的应用展开的；同时围绕氧化钒探测器的微桥热绝 缘结构，采用多孔硅牺牲层来制作微桥结构的红外探测器；在理论上，主要是围绕 VO2 薄膜相变机理探讨和VO2 薄膜热滞回线运行规律分析展开的。本论文的研究内容 具体包括以下几个方面： (1) 针对氧化钒薄膜在非致冷红外焦平面的应用，开展了氧化钒热敏薄膜的制备 研究。通过优化薄膜淀积工艺，用反应离子束溅射和直流磁控溅射法制备了能满足非 致冷型红外探测器热敏层要求的薄膜。运用场发射扫描电镜(F-SEM) 、X 射线衍射 (XRD) 以及傅立叶分光光度计分析了薄膜的表面特征、晶体相成分和热敏薄膜的红外 特性。采用反应离子束溅射法和后退火工艺制备的热敏氧化钒薄膜，在退火温度为 450C ，退火时间为60min 时得到了TCR 为-2.26%/oC 和方块电阻为31 k/ 的薄膜。 采用直流反应磁控溅射法在 2 10oC 下可以一次性制备出热敏性能满足非致冷红外焦