06电子束与物质的互作用.pptVIP

* * 材料显微分析 X光化学分析 一. 分析理论基础及方法 理论基础： 莫塞莱定率 h: plank常数 K: 与马德堡常数有关 σ：屏蔽常数 L系 常用K系 XRF 激发源: 一次X-Ray e束 EPMA 不必导电，液体可 试样： 微区 导电或镀膜 Be4-u92 相对较低，几百ppm；绝对较高，10－13－10－14g 少量到百分之百 可，必须校正 照射区域： 检测范围： 含量限制： 灵敏度： 定量分析： 展谱方式： 大面积 F9－u92 (C6) 相对较高，几－几十ppm；绝对较低。 微量到百分之百 WDS或EDS 两种类型的散射及产物 ①弹性散射　　改变轨道，能量不变 ②非弹性散射　改变轨道，能量改变 非弹性散射产物　　 可能获得信息　 二次电子　　　　　 形貌(SEM) 俄歇电子 不同深度成份分析 (Anger谱线) 连续与特征X线 晶体结构成份分析 XRD FXR 长波辐射　 电子结构　 （红外,可见,紫外） 电子－空穴对　　　　　　 内电磁场 晶格振动（声子）　　　　 形貌 等离子激光(plasma) 非弹