陶瓷硬质薄膜的微结构和力学性能的分析.pdf

摘要 ／’ f现代科学技术的迅速发展，对材料提出了愈来愈苛刻的性能要求．在材料的诸多 性能中，硬度是其最重要、最基本的性能指标之一．超硬材料的合成及其性质的研究， 一直是凝聚态物理和材料科学研究的重点之一．对硬质薄膜的研究主要集中在本征硬 质薄膜、多元化合物硬质薄膜、纳米陶瓷多层膜和纳米混合薄膜几个重要的方向。广、一一 本文利用反应磁控溅射技术，在不同的工艺条件(沉积温度、反应气体分压和基 分、相结构、微观结构和生长形貌等，并利用显微力学探针测量了薄膜的硬度和弹性 ／ 模量等力学性质．(结果表明： L 1．采用磁控溅射法，在基片温度为室温时制备的B4C薄膜呈非晶结构，基片温度提 小幅度提高到高温下的50．4GPa。 2． 采用磁控溅射法，随N2分压的改变，可以制备不同氮含量的CrN。薄膜，且薄膜 的沉积速率，化学成分、相组成以及相应的力学性能均随N2分压的改变而改变。 能，且具有较高的沉积速率。在高N2分压的反应溅射法可制备CrN薄膜，但沉 3 采用磁控溅射技术，在不同的N2分压下可以制备出不同氮含量的NbN薄膜，且 薄膜的沉积速率、化学成分，微观结构和以及相应