合成 物理化学.pptVIP

本文观看结束！！！ O = 7. 芳环上引入-X、-NO2、-NH2、-SO3H、-R、-C-R O = -X -NO2 -R -C-R -NH2 -SO3H X2 FeX3 或Fe H2SO4 + HNO3 Fe + HCl H2SO4 · SO3 或浓H2SO4 R-X AlCl3 R-C-X AlCl3 O = ● 官能团的相互转化 R-COCl R-CONH2 R-COOR/ (RCO)2O R-COOH NH3 R/OH NH3 NH3 H3O+ H3O+ H2O H2O R/OH R/OH P2O5 SOCl2 2. 羧酸及其衍生物的转换 1. 卤素、羟基、氨（胺）、羰基、羧基的转换 R-OH R-C- R-COOH R-MgX R-X R-NR2 R-NH2 R-NHR R-COOH R-CN R-CH2NH2 [ H ] [ O ] [ O ] NaCN H3O+ R-X R-NH2 NH3 PX3 H2O / OH- Mg ① CO2 ② H3O+ O = 在有机合成中，往往要考虑到某些官能团也会受到反应试剂或条件的影响而产生副反应，甚至影响整个合成过程。因此在合成时必须采取对某些受影响的基团暂时转换为另外的稳定的结构，而进行保护措施，待反应完毕再使基团复原。 在选择保护基时要符合下列要求: ① 在温和条件下易与被保护基团反应。 ② 保护基必须在保护阶段的各种条件下是稳定的。 ③ 保护基易于在温和条件下除去。 三、官能团的保护 R = 伯、仲、叔烃基 四氢吡喃醚：对碱、格氏试剂、烷基锂、催化加氢及 一些氧化剂稳定。但对酸不稳定。 ② 转变成醚 醚：对格氏试剂、还原剂、氧化剂、碱稳定。 1. 醇羟基的保护 ① 四氢吡喃醚 ROH + H+ O O R-O- 四氢吡喃醚 H2O / H+ ROH + HO(CH2)4CHO ROH R-O-CPh3 Ph3CCl CH3COOH / H2O 2. 酚羟基的保护 苯甲醚：对碱、氧化剂、还原剂等稳定，但对酸不稳定。 OH OCH3 CH3I 或 (CH3)2SO4 HI，△ 3. 醛、酮、羰基的保护 缩醛（酮）：对还原剂、氧化剂、碱、格氏试剂稳定， 但对酸不稳定。 R-C-R/ O = C R R/ O O HOCH2CH2OH / 干HCl H2O / H+ R-C-H O = C R H OCH3 OCH3 CH3OH H2O / H+ 4. 羧基的保护 R-COOH R-COOCH3 CH3OH / H+ H2O / H+或OH- 5. 氨基的保护 NH2 NH3 · SO4H + - H2SO4 NaOH 间位基 CH3COCl 或 (CH3CO)2O NHCOCH3 NH2 邻对位基 H2O / H+或OH- 6. 双键的保护 卤代烃：对碱、氧化剂、还原剂稳定 R-CH=CH-R/ R-CH—CH-R/ X X X2 Zn 当我们为一个目标化合物设计了几条可能的合成路线时，可以根据几条原则来评估各条路线的优劣，从而选择最佳路线。 有机合成路线的选择原则: 7. 芳环位置的保护 H2O / H+ H2SO4 SO3H 四、选择合成路线的步骤和方法 选择路 线原则 结构上要求 碳架的形成 官能团的引入 经济上要求 ① 原料易得，便宜 ② 产物易分离，收率高，副 ③ 步骤要求简单 ④ 反应经典，可发生，条件 温和，对环境污染小 反应少 反应步骤少，收率要高是选择合成路线的重要因素。 如化学反应： A AB ABC ABCD B C D 假如反应每步产率90%，则3步后总产率为(0.9)3 ×100 = 73% 假如反应每步产率70%，则3步后总产率为(0.7)3 ×100 = 34% 平衡法：