交替移相掩模技术的版图优化方法的研究.pdfVIP

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2015-11-30 发布于安徽
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交替移相掩模技术的版图优化方法的研究.pdf

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3．3．3．1 迭代器的初始化………………………………………j………………………．3l 3．3．3。2迭代器自增………………………………………………………………………32 3．3．4平衡操作……………………………………………………………………………．33 3．4在相位冲突检测中的应用………………………………………………………………．35 3．5实验结果与分析…………………………………………………………………………．36 3．5．1插入操作……………………………………………………………………………．37 3．5．2删除操作……………………………………………………………………………．．38 3．5．3查询操作……………………………………………………………………………。39 3．6本章小结……………………………………………………………………………………39 第4章基于三连通分支分解的相位分配算法………………………………………………40 4．1三连通分支及其数据结构………………………………………………………………．40 4．1．1三连通分支…………………………………………………………………………40 4．1．2 SPQR-Tree数据结构………………………………………………………………43 4．2算法概述…………………………………………………………………………………．47 4．3求解分支解集……………………………………………………………………………．．49 4。3．1非根结点……………………………………………………………………………．49 4-3．1．1 S型节点…………………………………………………………………………51 4．3．1．2 P型节点…………………………………………………………………………53 4．3．1．3 R型节点…………………………………………………………………………54 4．3．2根结点………………………………………………………………………………56 4．4合并解集…………………………………………………………………………………．57 4．5实验结果及分析……………………………………………………………………………60 4．6本章小结………………………………………………．．．………………………………．．62 第5章FDPSM软件……………………………………………．．．…………．……………………63 第6章总结与展望………………………………． …………………．．………………．．68 6．1工作总结…………………………………………………………………………………．68 6．2未来工作展望……………………………………………………………………………．69 参考文献…………………．．……．．…………………．．………．．…………………．………70 ji；[谢．．．．……．．．…．…．．…………．．．．．…………．……．．………．………．．．………．．．．．……………．．．．…．．．．．．7zI 硕士期间发表的论文………………………………． ………．…………………．………75 摘要随着集成电路的不断发展，电路特征尺寸不断缩小。在电路尺寸达到纳米量级的今天，设计与工艺的独立性被打破，引发了一系列可制造性设计问题与相关研究。交替移相掩模是一种通过对掩模版进行相位偏移而提高光刻分辨率的先进工艺技术，用来解决深亚波长光刻下由于衍射效应引起的图形失真问题。交替移相掩模技术的版图优化是可制造性设计领域的计算机辅助设计技术，用于对版图进行相应技术的修改。 PhaseShift 本文提出了一种交替移相掩模版图优化软件原型FDPSM(Fudan Mask)，以及在FDPSM中应用的交替移相掩模技术版图优化的相关数据结构和算法，实现暗场条件下的相位冲突检测和相位分配。本文提出了一种基于三连通分支分解的相位分配算法TCDBPA