紫外光辐照精细酸铋薄膜的制备及其图案化研究.pdf

IRRADITED STUDYoNULTRAVIOLET THINFILMAND ELABORATION BIFEOa MICRoPATTERNING A Submittedto Thesis and Shaanxi ofScience University Technology inPartialFulfillmentofthe forthe of RequirementDegree Masterof Engineering．．． Thesis Miao Hongyan Supervisor：Professor Assistant professor．TanGuoqiang May,2010 紫外光辐照精细铁酸铋薄膜的制备及其图案化研究 摘要 铁磁电材料由于同时具有铁磁性和铁电性己被广泛作为一个磁电耦合 参数秩序很有前途的材料。这些材料在自旋电子和信息存储应用方面具有很 序(居里温度为1103K)和反铁磁有序(尼尔温度为643K)。由于这种磁电耦 合性质，BFO的系统可用于发展广播、电视、微波和卫星通信、泡沫存储 设备、音频、视频、数字录音等领域的新应用程序。 本文研究内容与结果摘要如下： 1．研究了一种在低温水溶液中制备BiFe03薄膜材料的新合成方法。将 自组装单分子薄膜技术(Self-Assembled Phase (Liquid 前驱体溶液的诱导作用，在基底表面制备出结构均一的与基地结合牢固的 BiFe03薄膜及其图案化。该法只需在适当的溶液中浸入基片，在基片上便 会沉积出致密均匀的薄膜。成膜过程操作简单，而且不需要昂贵的仪器。 本研究在水的沸点以下，将基片浸渍在含有铋铁络合物离子的前驱液 中，在基片上沉积出含有铋铁的络合物薄膜，然后再经过高温退火，获得具 有纯相的BiFe03薄膜。我们系统讨论了前驱液的配比，通过实验，确定了 等测试手段对所制备BiFe03薄膜的结构、相组成和表面形貌进行了分析考 察，研究结果表明：在前驱液浓度为O．01 65℃，退火温度在550。C的最佳工艺条件下，可以得到结晶良好的具有钙钛 矿型晶体结构的BiFe03薄膜，且膜层表面结构致密均一，与基底结合牢固； 诱导作用，能够诱导BiFeO，前驱体在基底表面均匀地成核和生长，进而形 成一层与基底结合紧密、结构致密的膜层。 根据上述实验条件进一步对BiFe03薄膜进行图案化制备。将 OTS．SAMs基体在光掩膜覆盖下用紫外光进行刻蚀，得到含有亲水性和疏水 化薄膜。通过接触角仪、原子力显微镜、X射线衍射、扫描电镜、X射线能 模板利用液相沉积法制备出边缘轮廓清晰、粗糙度较小，与基板结合力较强， 条纹宽度为10201am的BiFe03图案化薄膜。 2．研究了化学液相法制备BiFeO，薄膜的制备工艺，采用提拉法涂膜并 的玻璃基底上所制备的铁酸铋薄膜结构致密均一，与基底表面结合力强；在 退火温度为450℃时，铁酸铋的晶相开始形成，随着温度的升高，衍射峰强 度变大，峰形变尖，在500℃到600。C退火的温度范围内，可得到结晶良好， 的杂峰。同时，进一步对BiFe03薄膜进行图案化制备。 关键词： OTS自组装层，铁酸铋薄膜，液相沉积，图案化