透明屏蔽ito膜的制备与特性研究.pdfVIP

中 文摘要 透明屏蔽材料是一类兼具透光性和电磁屏蔽性能的优良材料。其中薄膜型的透明屏蔽 广泛的应用前景，但同时也存在屏蔽频段宽度窄，屏蔽效能较低的不足。因此，如何得到 宽频段，高效能的透明屏蔽薄膜材料，是业界长期研究的重点。 多种工艺可以用来制备透明屏蔽薄膜，如磁控溅射法、溶胶一凝胶法、化学气相沉积、 真空反应蒸发以及脉冲激光沉积等。其中磁控溅射工艺因具有沉积速率高、均匀性好等优 点而被广泛应用。 本文研究采用磁控溅射法在玻璃衬底上制备氧化铟锡(ITO)透明屏蔽薄膜。所用的靶材 蔽效能测试等试验手段对沉积的薄膜样品进行表征，结论如下： (1)薄膜透明屏蔽性能与衬底温度、溅射氧气压，薄膜厚度密切相关。在衬底温度350 ℃，氧氩比0．5／50时获得的薄膜性能最好；ITO薄膜样品的SEM表明，样品表面较平整， 且晶粒也比较致密；薄膜透光率超过80％，电阻率低至1．17x10。4Q·cm。 全频段内超过20dB，薄膜的屏蔽效能达到了预期目标要求；屏蔽效能的峰值达到50dB左 右： 层ITO薄膜，三种情况ITO总厚度相同。多层薄膜由于界面散射增多，透光率比单层镀膜 低一些；多层镀膜由于界面反射损耗的增加，起到增加屏蔽效能的作用。 为设计与研制高效能、宽频段的透明屏蔽薄膜材料奠定了基础。 关键词：ITO薄膜；磁控溅射；电磁屏蔽；屏蔽效能；透光率 ABSTRACT that materialiSonekindofexcellentmaterialhas Transparent’Shielding and atthesametime．Thin electromagnetic transparent shieldingproperties material film hasabroad because transparent-shielding applicationprospects ofits thathas advantage hightransmittance，exterior appearance， non—diffractioninterference．howto So acquirehighperformance filmisthefocusof nOW． transparent-shieldingstudy Canbe to used films，such Manyprocesses preparetransparent-shielding as method，chemical magnetronsputtering，Sol—gel vapordepositions， vacuumreactive and these evaporationlaser-pulseddeposition．Among isthemost usedbecauseit’S methods，magnetronsputtering widely high rateand