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二维纳米薄膜 Demon.C June 6, 2013 1 功能特性 2 制备方法 3 应用 1 纳米薄膜材料的功能特性 1．蓝移和宽化 纳米颗粒膜，特别是Ⅱ—Ⅵ族半导体CdSxSe1-x。以及Ⅲ-V族半导体CaAs的颗粒膜，都观察到光吸收带边的蓝移和带的宽化现象。有人在CdSxSe1-x／玻璃的颗粒膜上观察到光的“退色现象”，即在一定波长光的照射下，吸收带强度发生变化的现象。由于量子尺寸效应，纳米颗粒膜能隙加宽，导致吸收带边蓝移。颗粒尺寸有一个分布，能隙宽度有一个分布，这是引起吸收带和发射带以及透射带宽化的主要原因。 1 2 光的线性与非线性 光学线性效应是指介质在光波场(红外、可见、紫外以及X射线)作用下，当光强较弱时，介质的电极化强度与光波电场的一次方成正比的现象。 例如光的反射、折射、双折射等都属于线性光学范畴。纳米薄膜最重要的性质是激子跃迁引起的光学线性与非线性。一般来说，多层膜的每层膜的厚度与激子玻尔半径相比拟或小于激子玻尔半径时，在光的照射下吸收谱上会出现激子吸收峰。这种现象也属于光学线性效应。 1 所谓光学非线性，是在强光场的作用下介质的极化强度中就会出现与外加电磁场的二次、三次以至高次方成比例的项，这就导致了光学非线性的出现。 对于纳米材料，由于小尺寸效应、宏观量子尺寸效应，量子限域和激子是引起光学非线性的主要原因。如果当激发光的能量低于激子共振吸收能量，不会有光学非线性效应发生；只有当激发光能量大于激子共振吸收能量时，能隙中靠近导带的激子能级很可能被激子所占据，处于高激发态。这些激子十分不稳定，在落入低能态的过程中，由于声子与激子的交互作用，损失一部分能量，这是引起纳米材料光学非线性的一个原因。前面我们讨论过纳米微粒材料，纳米微粒中的激子浓度一般比常规材料大，尺寸限域和量子限域显著，因而纳米材料很容易产生光学非线性效应。 1 纳米薄膜的电学性质是当前纳米材料科学研究中的热点，这是因为，研究纳米薄膜的电学性质，可以搞清导体向绝缘体的转变，以及绝缘体转变的尺寸限域效应。我们知道，常规的导体，例如金属，当尺寸减小到纳米数量级时，其电学行为发生很大的变化。有人在Au／Al203的颗粒膜上观察到电阻反常现象，随着Au含量的增加(增加纳米Au颗粒的数量)，电阻不但不减小，反而急剧增加。这一结果告诉我们，尺寸的因素在导体和绝缘体的转变中起着重要的作用。 1 3 磁阻效应 材料的电阻值随磁化状态变化的现象称为磁(电) 阻效应。对非磁性金属，其值甚小，在铁磁金属与合金中发现有较大的数值。铁镍合金磁阻效应可达2％—3％，且为各向异性。 颗粒膜的巨磁阻效应与磁性颗粒的直径呈反比关系，要在颗粒膜体系中显示出巨磁阻效应，必须使颗粒尺寸及其间距小于电子平均自由程。 1 利用巨磁阻效应制成的读出磁头可显著提高磁盘的存储密度，利用巨磁阻效应制作磁阻式传感器可大大提高灵敏度。因此，巨磁阻材料有良好的应用前景。 制备技术 1、物理方法 1）、真空蒸发(单源单层蒸发；单源多层蒸发；多源反应共蒸发) 2）、磁控溅射 3）、离子束溅射（单离子束(反应)溅射；双离子束(反应)溅射；多离子束反应共溅射） 气相沉积的基本过程 (1)气相物质的产生 一种方法是使沉积物加热蒸发，这种方法称为蒸发镀膜；另一种方法是用具有——定能量的粒子轰击靶材料，从靶材上击出沉积物原子，称为溅射镀膜。 (2)气相物质的输运 气相物质的输运要求在真空中进行，这主要是为了避免气体碰撞妨碍沉积物到达基片。在高真空度的情况下(真空度≤10-2Pa)，沉积物与残余气体分子很少碰撞，基本上是从源物质直线到达基片，沉积速率较快；若真空度过低，沉积物原子频繁碰撞会相互凝聚为微粒，使薄膜沉积过程无法进行，或薄膜质量太差。 (3)气相物质的沉积 气相物质在基片上的沉积是一个凝聚过程。根据凝聚条件的不同，可以形成非晶态膜、多晶膜或单晶膜。若在沉积过程中，沉积物原子之间发生化学反应形成化合物膜，称为反应镀。若用具有一定能量的离子轰击靶材，以求改变膜层结构与性能的沉积过程称为离子镀。 蒸镀和溅射是物理气相沉积的两类基本制膜技术。 蒸发制膜 是指在高真空中用加热蒸发的方法是源物质转化为气相，然后凝聚在基体表面的方法。 蒸镀原理 在高真空中，将源物质加热到高温，相应温度下的饱和蒸气向上散发，蒸发原子在各个方向的通量并不相等。基片设在蒸气源的上方阻挡蒸气流，蒸气则在基片上形成凝固膜。为了补充凝固蒸气，蒸发源要以一定速度连续供给蒸气。 蒸镀方法 （1）电阻加热蒸镀 （2）电子束加热蒸镀 （3）合金膜的制备 a. 单电子束蒸发源沉积 b. 多电子束蒸