温室小型西瓜生长模型的研究及栽培管理专家系统的建立.pdfVIP

中文摘要 温室小型西瓜生长模型的研究 及栽培管理专家系统的建立 中文摘要 小型西瓜 (凸rtullusuvl召刁rJSShcrad.)，俗称“礼品西瓜”，或 “微型西 瓜”，是近几年发展起来的一类西瓜新品种，己成为我国西瓜市场上的高档畅销 果品，是目前我国现代化温室和一般保护设施中经济效益较高、栽培面积较大 的主栽蔬菜品种之一。但目前我国温室蔬菜栽培现状十分堪忧:虽然硬件设施 有所改善，特别是经济发达区，大型智能温室发展迅速，然而栽培技术严重滞 后，管理粗放、随意，缺乏科学的运筹决策和量化的管理指标，低产、劣质、 污染和亏损总是如影随行，难以克服，这样既造成人力、物力和能源的浪费， 也因品质差、商品性较次，使得产品市场竞争力下降，大大限制了国内外市场 开拓。研究建立小型西瓜生长模型，并在此基础上开发栽培管理专家系统，对 于准确预测小型西瓜生长发育动态和产量形成、温室环境优化和调控以及制定 最优栽培方案和技术措施，从而实现温室西瓜的科学管理，生产安全、优质、 高产、高效的高档产品，都具有十分重要的理论意义和实际意义。 目前基于生长模型的温室蔬菜作物栽培管理专家系统研究还较少，特别是 基于生长模型的温室小型西瓜栽培管理专家系统在国内外仍未见报道。本文在 前人模型研究和多年温室小型西瓜栽培经验的基础上，利用江苏省农科院现代 化智能温室，于2003年5月至2004年2月进行了4个品种6个不同播期的试 验。1一4播期试验为模型建立提供数据，5一6播期试验用于模型检验。通过 观测记载和分析小型西瓜植株生长的相关生理过程、生长发育形态变化、干物 质积累与分配以及环境因子，研究建立了一系列生长模型和基于模型的栽培管 理专家系统。主要研究内容和成果如下: 1.研究建立了基干生长度日的温室小型西瓜发育模型 通过对小型西瓜3个品种4个播期的生长发育物候期和气象资料的连续跟 中文摘要 踪记录，研究分析试验结果并对温室小型西瓜生长发育阶段进行划分:发育 阶段包括 (播种期)、幼苗期、伸蔓期、开花座果期、果实生长盛期和果实成 熟期。采用生长度日法G〔DD=E(Td一Tb)1作为发育模型构建方法。根据作物 生长发育阶段生长度日恒定的原理，确定各发育阶段生长度日的参数，同时 将不同播期温室西瓜各生育阶段的生长度日的平均值确定为各生育阶段的模 拟值:自幼苗期至果实成熟期分别为442.5℃d、385.6℃d、67.6℃d、480.8 ℃d、241.1℃d。由此温室小型西瓜发育的动态模拟模型可描述为: 发育进程模型:DVP(1+1)=DVP(1)+DVR*△t [其中DVR为发育速率: DVR= (Ti一Tb)A/1 其中Ai为生育阶段有效积温: Ai=艺(Td一Tb)] 根据发育模型，能较准确的、系统的预测小型西瓜生长发育阶段。 模型检验结果表明，温室小型西瓜发育动态模拟模型具有较高的精确性、 机理性和实用性。温室小型西瓜发育动态模拟模型的建立，为温室环境调控管 理、全年茬口科学安排和优质高效栽培提供了理论和实践依据。 2、研究建立了温室小型西瓜光合生产、干物质积累与分配模型 在借鉴国内外温室蔬菜作物光合生产和干物质积累模拟模型的基础上，本 文根据温室小型西瓜的试验数据，确定参数C和参数PLMX，分别为0.45kg co:腼一h一’/(Jm一25一’)、42kgcoZhnt.Zu’，建立了温室小型西瓜光合生产和干 物质积累模拟模型，包括叶面积指数动态模型、光合生产动态模型和干物质积 累动态模型。 ()1叶面积指数动态模型 是利用生长度日对叶面积指数LOG工STIC方程 建立起来的，其模型为 : LAI=1.6/(1+EXP(121‘206吸8一0.015080*GDD+0.000001*GDDZ) (2)光合生产动态模型 包含单叶光合作用模型和冠层光合作用模型: