2012_半导体物理_3_半导体中载流子的统计分布-2013-04-02.pptVIP

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2012_半导体物理_3_半导体中载流子的统计分布-2013-04-02.ppt

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半导体物理学 第3章 半导体中载流子的统计分布 SCNU 光电学院 * 费米积分 EF非常接近或进入导带时: EF非常接近或进入价带时: 简并化条件 由n型简并与非简并半导体的n0/Nc与(EF-Ec)/(k0T)关系图可见:简并与非简并半导体两者n0/Nc的差别与Ec-EF的值有关,Ec-EF的大小可以作为判断简并与否的判据。 非简并:Ec-EF?2k0T 弱简并:0?Ec-EF?2k0T 简并:Ec-EF?0 n型半导体发生简并时的杂质浓度 电中性条件: 简并化条件: 发生简并时的ND与?ED有关,杂质电离能?ED越小,则当杂质浓度较小时就会发生简并。 若在杂质浓度ND时发生简并化,对一定的?ED和ND, 温度T可以有两个解T1,T2,表明发生简并化有一个温度范围T1~T2,杂质浓度越大,发生简并的温度范围越宽。 半导体物理学 第3章 半导体中载流子的统计分布 SCNU 光电学院 * 对掺P的n型Ge,P的电离能DED = 0.012eV, Ge的电子有效质量mn*=0.56m0,计算可得发生简并时的杂质浓度:ND=3ⅹ1019 cm-3。 对掺P的n型硅,P的电离能DED =0.04

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