《PLD制备铁电薄膜工艺参数的研究现状.》.pdf

第36卷第2期 红外与激光工程 2007年4月 V01．36No．2 In6骶dandLaser Apr．2007 Engineering PLD制备铁电薄膜工艺参数的研究现状 赵亚凡1’2，陈传忠2，宋明大3 (1．山东建筑大学理学院，山东济南250014；2．山东大学材料科学与工程学院， 山东济南25006l；3．山东大学机械工程学院，山东济南250061) 摘 要：铁电薄膜在微电子学、光电子学、集成光学和微电子机械系统等领域有着广泛的应用(前 景)。脉冲激光沉积(PLD)在铁电薄膜制备方面显示出独特的优越性。介绍了PLD的原理、特点；综述 了PLD工艺参数，包括衬底温度、氧气压力、靶材结构与成分、能量密度、靶基距离、缓冲膜以及退火 工艺等的研究现状；展望了PLD制备铁电薄膜的应用前景。 关键词：脉冲激光沉积； 铁电薄膜； 工艺参数 中图分类号：TN249文献标识码：A 文章编号：1007—2276(2007)02—0175—04 I沁searchstatusofthetechnical ofthe Iaser parameterspulsed ferroelectricthinmms deposited zHAO Ya-‰1”，c卸三N ChuaIl‘mon矿，SONGMing-da3 of (1．SchoolScience，ShandongAI℃hitectIl∞UlliVers姆，Jin姐250014，ChiIla； 2．Sch00lofM曲BrialScience锄d 25006l，Cllina Engine鲥ng。ShandongUIliv懿埘，JiIlan 3．SchoolofMechaIlical UIliVersity，Jin锄25006l，China) Engin∞血g，Sh弛dong Abstr舵t：Fe]∞electricⅡlillfilmhaswide inmefieldsof appHcation and1Ilicro乇1ectricalmechaIlical 1aser showsan c仃omcs，integratedoptics system．PUlseddeposi曲n uIlique fortlle offje玎0elec缸ictllinfilm．ThernechaIlism锄dcharacteristicsofPLDare adVaIltaged印osition discussed．ResearchstatIlseofmetecllllical ofme laser fen．oelectric par锄eters pulsed deposited films， subs仃atc including tempera眦，oxygenpressure，乜唱etcomposition锄ds廿Ilcture，ene昭ydens时，位唱et—