激光干涉纳米制造中的尺寸检测和质量评估.pdfVIP

摘 要 激光干涉纳米光刻是产生周期性、纳米级图案的有效技术之一．该技术具有无掩 模、长焦深、高分辨率、成本低、容易实现大面积等优点。然而．由于在激光干涉纳 米光刻产生图案的过程中存在诸多干扰因素．如温度的变化、湿度的变化、灰尘、噪 声等．使得部分干涉图案发生变形或出现缺陷．因此．需要我们对于涉图案进行质量 检测和评估。 本文讨论了激光干涉图案的参数检测和质量评估的方法。苗先，介绍相关检测原 理．并运用该方法测量两光束激光干涉的计算机仿真图和激光干涉系统产生的CCD模 拟图，其中计算机仿真圈包括理想倾斜条纹图和加噪声的倾斜条纹图。预惺结果证明， 对于激光干涉条纹图．该方法是一种有效的测量方法并且具有较高的抗噪声性能。然 1 east 后，介绍了霍夫拟台(Houghfitting)和最小二乘拟台(thesquaresfittlng) 的原理，并使用这两种方法测量两光柬激光干涉的计算机仿真图和由AFM扫描得到的 实际光刻图案，详细论述了基于霍夫拟合和最小二乘拟台两种检测方法的实现过程， 并分别分析了测量结果．提出了最d,乘与霍夫相结合的联合拟台方法。实验结果表 明．该方法拟合精度高、抗噪声能力强。最后．利用联合拟合方法测量得到的实际激 光干涉图案的参数．通过Matlab软件编程，得到与该实际图案同样参数的理想图．通 过测量理想翻和实际图的二值化图互相关系数的大小．判断该实际干涉图受噪声的影 响程度，实现了对激光干涉光刻图案的质量评估： 关键词：激光干涉尺寸检测相关质量评估 ABSTRACT Laser isoneofeffective for interference generating nanolithoFaph3 technologies andnanoscaleThe the low periodical panernstechnolog)has cost areaandmaskless Howeverinalaserinteflbrenee large patterning the ofthefabricatedisoftenaffected factorssuchasthe processqualiu patterns b)various laser variationsandnoiseTherefore intensityhomogeneit)temperature qualiUinspection and the Interforence assessmentareessellfialln laser nano】l廿102raDh、process Inthis the and the workthe methodolog)fordetectingparametersevaluatingquality of fabricatedlaserinterference arediscussed the patterns bj photolithograph3 Firsttb ofcorrelationisintroduced．andthe inthetwobeam principle computer-sinmlationpatter