micropiv系统对方形微流道3d速度分布的测量-中国科学院力学研究所.docVIP

MicroPIV系统对方形微流道3D速度分布的测量 郑旭 王绪伟 李战华* 中国科学院力学研究所非线性力学国家重点实验室，北京，100080 *lili@imech.ac.cn 摘 要：本文介绍了一种具有垂向精细调节功能的MicroPIV系统。在PI纳米位移控制器的配合下，垂直方向位移调节精度可达到10nm。对微方形流道55μm×20μm中不同垂直位置处的速度分布的测量结果表明，无量纲化实验测量速度分布与三维理论预测值符合得很好，同时垂直方向无量纲最大速度也与理论结果相符。证明宽深比小于3的微管道的速度剖面的3D特征。 关 键 词：MicroPIV，微流动，方形流道，速度分布 1.引言 微流动是MEMS系统研究中的一个重要内容，对微流动机理的研究成为MEMS领域发展的重要基础，Ho Tai[1]对此已进行了全面的综述。Santiago et al.[2]和Meinhart et al.[3]率先发展起来的MicroPIV技术，为微流动中速度测量和流动显示提供了重要的手段。近年来，MicroPIV技术逐渐发展成熟并已成功的被应用于微流动的实验测量中[4],[5]，但还有不少问题需要改进，如进一步提高空间分辨率，提高近壁区测量精度等。本文将介绍由高放大倍数、高数值孔径物镜，纳米位移控制系统组建的MicroPIV系统，该系统的光学分辨率达到0.35μm，图像分辨率达到80nm，垂直位置调节精度达到10nm。 现有微流控芯片以方形流道为主。当方形微流道制成宽度远大于高度的形状时，在宽度中心位置测得的沿高度方向的速度分布与二维Poiseuille流抛物线分布近似[4]。而依据White[6]给出的粘流方管理论解，高度和宽度相差不大的方管，三维效应将会非常明显，二维Poiseuille流抛物线解将不再适用。宏观尺度方管速度分布的理论分析已经有了比较完整的结果，Schlichting[7]总结了Nikuradse实验，给出了层流方管横截面的等速度线，Patel Head[8]给出了不同雷诺数下方管中不同层面最大速度的分布。但至今没有对方形微管道中的实验结果进行验证。而且微流动中壁面效应对近壁流动也将有明显的影响，这启发我们进一步利用MicroPIV来考察方形微流道中的速度分布。 2.实验装置和方法 2.1.MicroPIV系统 中科院力学所LNM室的MicroPIV系统主要由双脉冲激光器(New Wave 120XT)、荧光倒置显微镜(Olympus IX71)、EMCCD(Andor 885)、纳米位移控制器(PI)、同步控制器(北京立方天地Micropulse 710)和电脑等组成。系统示意图如图1所示。 图1.MicroPIV系统示意图 (1)New Wave Nd:YAG 双脉冲激光器，发射光波长为λ=532nm，发射脉冲频率在1-15Hz内可调，脉宽3~5ns，最大激光能量120mJ，实验时使用范围10~15mJ。 (2) Olympus IX71荧光显微镜的核心部件是物镜。物镜分辨率δ计算公式为： (1) 其中NA为物镜数值孔径，n为介质折射率，θ为物镜视场半角。可见选用高数值孔径的油镜，可以提高分辨率。因此我们选用了100X的油镜，数值孔径NA=1.35，镜头油折射率n=1.516，(δ=0.35μm)。物镜工作距离为100μm，这对微流道的制作有了一定的限制。依据文献[2]、[3]，物镜景深表示为： (2) 其中M为物镜放大倍数，e为CCD单像素宽度(对Andor 885 EMCCD e=8μm)，那么δz=0.54μm。 (3) 实验使用的荧光粒子粒径为dp=200nm，被激发光波长约610nm，荧光液体由荧光粒子加超纯水配成，浓度约0.1%，其衍射光斑直径ds和有效光斑直径de分别为： (3) (4) 当物镜放大倍数M=100，入射光波长λ=532nm时，ds=48.1μm，de=52.1μm，即通过物镜观察到的荧光粒子直径为de/M=0.52μm。 (4)物镜焦平面位置的垂直调节依靠PI纳米位移控制器，调节范围0~100μm，调节精度10nm。 (5)图像拍摄使用1004×1002像素14bit Andor 885 EMCCD。该CCD有电子增益功能，光敏感度高。单个像素宽度为8μm，配合荧光显微镜，1×1bining下