FePtBl;,4gt;C纳米复合多层薄膜的制备与表征.pdfVIP

摘要 本文采用磁控溅射方法制各了适用于硬磁盘存储的FePt，B#纳米复合多层 薄膜，利用FePt的磁性及B。C的非磁性、良好的机械性及自润滑性，将硬磁盘 制造中的三层工艺减少为一层，具有良好的应用前景。并利用振动样品磁强计、 x射线衍射仪、x光电子能谱仪、磁力显微镜、透射电子显微镜、纳牛力学探针 等分析手段，研究了样品随Fe俨t原子的比例、退火温度、B4c的掺杂量、循环 单层的结构、循环单层中FePt的含量对样品磁性能的影响以及B4C的含量对样 品硬度的影响。 实验结果表明，若使用制备态一退火工艺，其它工艺参数一定时，Fe／Pt的 溅射时间比为7：1时原子比最佳，矫顽力最大；退火温度为500℃时矫顽力的大 小比较合适；B4C的溅射时间为100S时样品的矫顽力最大并在大于200s后逐渐 趋于定值，即B4c到达一定厚度后会阻碍退火过程中Fe／Pt原子的扩散，形成明 显的分层结构；Fe／Pm徊4C结构比F叩佃4C结构更能使Fe／Pt原子混合均匀， 得到更大的矫顽力；单循环层中FePt层越厚得到的矫顽力越大；薄膜的硬度随 B。C的含量单调增大。若使用原位加温500℃工艺，同样发现Fc／Pt的溅射时问 比为7：1时原子比最佳：薄膜的矫顽力随FePt层及B。C层的厚度均增加；薄膜 的硬度随B。C的含量线性单调增大。 由此可见，无论在哪种工艺条件下。通过调节FePt层的厚度以及调节B4C 层的厚度可以调节薄膜的矫顽力大小以及薄膜的硬度，选取合适的参数可以满足 实际生产中硬磁盘存储的需要。进一步优化工艺以及在工艺上的继续探索，相信 FcP佃。c纳米复合多层薄膜会是一种非常有实用价值和发展潜力的技术。 关键词：磁控溅射FeP佃。C薄膜矫顽力硬度 AbstI甚ct Inthis methodOf hasbeen research，the magnetronsputteringsystem usedto thinfilm used FcP佃；4C which inharddisk pfeparenaIlo-multilayer storage．The whichutilizedthc ofFePtand study ma弘etism me mechanism non-magnetism，900d in andself-lubricatiOnof tlle harddiskmanufacturefromtllreet0 B4C，reducelayers in havestudiedontheratioof one，haVe FB／Pt goodpotcntialapplication．T11esample of of atoms，annealingtemperatIlfe，contentB4C，st九lcture sin出ecyclelayer， innuenceof FePtcontentin and ma印etismby cyde innuenceof sin出