SrBilt,2gt;Talt;,2gt;Olt;,9gt;铁电薄膜的三阶非线性光学性能的研究.pdfVIP

摘要 采用射频磁控溅射法和脉冲激光沉积技术(PLD)，在双面抛光的石英基片 上制备了srBi2r11a209铁电薄膜和掺杂有金属纳米团簇的复合薄膜，并对薄膜的线 性光学与非线性光学性质、结晶性以及薄膜表面形貌等进行了比较详尽的研究分 析。论文工作的内容和结论如下： 结果表明薄膜样品为(115)择优取向，具有很好的结晶性；利用原子力显微镜 (AFM)对薄膜表面进行了表征，发现样品晶粒排列比较致密，表面平整度比 较好：通过紫外一可见光光谱分析了薄膜的线性光学性能，计算出其折射率n= 3．05，厚度为349nm；利用z扫描技术对薄膜非线性光学性能进行了测量，从而 计算出其三阶非线性光学极化率的实部和虚部分别为Rexo’=8．29x10母esu和 srBim209薄膜，并研究了其光学性能。 (2)利用射频磁控溅射技术和共溅法在石英基片上制备了掺cu的 向；Al锄图像分析表明薄膜晶粒排列非常致密均匀，表面平整度比较好；通过 紫外一可见光光谱分析薄膜线性光学性能，得到其折射率为2．841，厚度为 330nm：利用z扫描技术测试分析了复合薄膜的三阶非线性光学性能，结果表明 x‘3’；O．62×10—esu。 其Rex‘3’=2．26×10～esu和Im 关键词：srBi2Ta209薄膜，磁控溅射，z扫描，非线性光学 Abstract thin filmsand films SrBi2Ta209 nano—composite Cu containingpaTticjes embeddedin matriceswere on SrBi2Th209 substratesRF depositedquartz using methodand laser linear magnetronsputtering pulseddeposition(PI。D)technique．T1le andnonlinear stnIctureandmesu—ace ofme optical crystal p【operties，the image fiImswere and as mainworksresultsarclistedfollows： fuIIyinVestigated．The thinfiImson substrateswere RF srBi2Ta209 (1)Tlle quartz grownby magnetron that method．The indicatesthefilmsare sputtering x—raydiffraction(xRD)data andhave sufface ofme{ilms goodcrystallinities．1he hi烈y(115)oriented image were force measuredatomic