等离子体增强化气相沉积法制备类金刚石膜及其纳米力学性能研究.pdfVIP

中文摘要 摘要：在过去的二十年间，类金刚石(DLC)膜引起了工业和研究领域的浓厚兴 趣。制备DLC膜的方法主要分为物理气相沉积法和化学气相沉积法。其中等离子 体增强化学气相沉积法是近年世界上兴起的一项新的表面处理方法，工业应用前 景非常好。但是使用该方法制备固体薄膜时，由于操作工艺参数很多，对沉积薄 膜性能影响很大，所以本课题研究的目的是优化各种工艺参数(沉积压力、沉积 时间、射频功率和偏置电压)来达到预定的表面力学性能。 本课题首先使用等离子体增强化学气相沉积设备在不同参数下制备类金刚石 膜，其次用原子力显微镜对所制备试样的表面粗糙度、摩擦力和摩擦系数进行表 征，最后用纳米压痕仪测量薄膜的硬度和杨氏模量。 研究结果表明，增加沉积压力可以稳定地改进类金刚石膜的摩擦性能，但会 降低薄膜的硬度和杨氏模量。受射频功率等其它加工参数的制约，沉积时间对薄 膜性能的影响是多样的。仅延长或缩短沉积时间来对类金刚石膜进行改性是存在 风险的。射频功率对DLC膜的摩擦性能影响不是很显著，而且存在扭转影响趋势 的关键点，在应用时必须多加注意。偏置电压对DLC膜的摩擦性能和力学性能都 能起到很好的改善作用，且影响规律稳定。但对于超高偏置电压对薄膜性能的影 响在本研究中没有涉及。 通过这些参数的研究可以制备出适合不同工作条件的DLC薄膜，并对今后类 金刚石膜的工业应用提供很好的研究依据和实验借鉴。 关键词：等离子体增强化学气相沉积；类金刚石膜：纳米力学性能 分类号：TB34：TB43 韭基蛮逼太堂亟±堂焦j金奎 △旦SI曼△￡I ABSTRACT the two carbon have ABSTRACT：Duringpast decades，diamond-like 09LC)films attractedall interestfromboth andthe research overwhelming industry community． Thereare methodsof two DLC and mainly preparingfilms：physicalvapordeposition chemical Chemical Enhanced deposition．Especially,Plasma vapor VaporDeposition abrandnewmethodto DLCfilmsinrecent ithas (PECVD)is prepare years，andvery preeminentintheindustrial the ofDLCfilmsare prospect application．Butproperties affectedvarious in this by processparameterspreparingprocess，Therefore，inpaper,we focuson the