在石英玻璃上MCVD制备金刚石薄膜.pdfVIP

摘要 本论文详细地介绍了金刚石薄膜的结构、性质及其应用和常见的几种 制备金刚石薄膜的化学气相沉积法。 本文详细介绍了自行研制的2450MH彬Kw带有石英玻璃窗、水冷却 不锈钢腔体微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)装置。论述了包括微波 系统、气路系统、真空系统、检测系统和保障系统等各部分的结构组成及 基本功能。 ／ ／金刚石薄膜的一个重要的应用就是作为窗口材料涂层，但是由于玻璃 易于被污染，对于生长高质量的金刚石薄膜是不利的，影响了其应用，而 且由于一般的研磨衬底方法对于石英玻璃的成核方法影响不大，更难以生 长出高质量的金刚石薄膜，而且由于玻璃中含有较多量的氧元素，对于金 刚石薄膜的生长是不利的，因此对于金刚石薄膜在一些领域中限制了其应 用潜力。为了得到高质量的金刚石薄膜本研究对于石英玻璃的表面进行了 清洗并用了负偏压增强形核的方法。4 系统地讨论了在石英玻璃上MPCVD沉积金刚石薄膜的实验过程中， 甲烷浓度、沉积气压、气体流量、基体温度等不同实验工艺参数对金刚石 薄膜质量的影响。通过实验得到了最佳的工艺参数。 ／现在国内外的制备方法是为了能够在石英玻璃上生长出金刚石薄膜 来，∑般都是用某些含碳元素(c∞或C70等)在成核期间通过蒸镀的方法 来形成一层过渡层来达到促进金刚石生长的目的，因此如何有效的增强形 核密度对于金刚石薄膜在石英玻璃上生长是十分重要的。对此，寸／本实验采 取了偏压增强形核的方法用自行研制的微波等离子体化学气相沉积 (MPcvD)装置对在石英玻璃基体上金刚石的涂层进行了研究。在 MPcVD制备得到了金刚石薄膜之后，分别用x衍射(XRD)、扫描电镜 (SEM)、拉曼谱(R￡哪a11)和光电子能谱(XPS)等测试手段对金刚石薄 膜进行了表征o(结果表明了生长出来的薄膜的主要成分是金刚石，同时发 现了sic的存在：这表明了用MPcVD在石英玻璃上生长金刚石薄膜时， 不是直接生长在Si02上，而是有一个过渡层SiC，然后在过渡层上再生长 一层金刚石薄膜。吨 √ 关键词I金刚石薄膜?石英玻璃?MPcvD、窗口材料：形核密度 Abstract nlis inn．oducethe ofthe consIruction，the paper pfopen)‘theapp】ication fhmiliar methodwhich the some di锄ond矗Im，and preparation preparation film chemical diamond using vapordeposition． micm、vave chemical adomestic Theresearchintroduced plasma vapor with windowandwater-cooled aquartzglass d印osition(MPCVD)equipment chamberin2450MHz，5Kw．Themachineriesand stainlesssteelreaction the mjcrowaVe functionof system， sub—syStems，jncludjngsystem，gas—route vacu啪system