射频辉光放电和ICP联用光谱激发源的研究.pdfVIP

摘爰 摘 要 辉光光谱仪凶其能直接分析固体样品和独特的深度轮廓分析性能，在分析领域中的 作J羽越来越重要。虽然辉光放电等离予体已广泛应川到多个领域，睡至已成为某些产业 的火键技术(如微电子]i艺111的等离子体刻蚀、镀膜)。但用于辉光光谱仪的辉光放电 等离了体激发源存在溅射速率和激发效率都较低的1i足，而．LL溅射下来进入负辉区的样 品}证子不能被完全激发，这些不足都足急待解决的。研究丌发辉光放电激发源，特别是 追踪固内外最新增强型激发源的研究，探索新的增强方式，寻求有效、稳定的激发效率 和提高溅射速率刈‘辉光仪器的发展足具有重要意义的。 木文简要叙述了囡内外业已报道的各种增强型辉光放电激发源的实验装置及原理。 if--身ll 增强型激发源的结构、原理。 氩气气压、石英炬管内径、ICP射频功率。并通过溅射激发锌铝合金标准样品米建立工 作|f{I线，通过建‘、：的_丁作I|ll线说明这些实验参数对增强效果的影响。研究结果表明，设 200Pa工作气压下的增强效果，结果显示200Pa时的增强效果优于500Pa。 注：本研究系国家科技部科学仪器设备升级改造专项课题“直流辉光光谱仪改造成为直 流／射频辉光光谱仪(编号：JG．2002．9)”子课题。 AbstracI Abstract Glow emission muchmore inthe dischargeoptical spectroscopy(GDOES)isimportant abilitiesforthedirect ofbulksolidsandthe areaof becauseofthe analysis depth analysis ofthinfilmsandindustrial of is ina dischargeapplying profiling coatings．Theplasmaglow lotofindustrial orevenitisthe ofsomeindustriessuchas departments key—technology andfilms the which with inmicro—electronics cauteryplasma industry deposited，butplasma usedas andexciteiscold haslowandlowexcite the sputter plasma，it effficiency,and of can’tbeexcitated when are into particlessamples completelythey sputterednegativeglow area．These needtobesolvedas as is and problems quicklypossible．Itimportant toresearchand the themostadvancedboostedsource developmentsource，especiall