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中文摘要
中文摘要
随着染料工业的迅速发展,染料品种和数量日益增加,染料废水给环境带来的污染也
日益加大。高色度的印染废水是目前公认的有害工业废水,其中主要含有染料及染料中间
体等难生物降解的有机物。对染料废水的脱色及降解的研究是世界性的难点和热点,已成
为当今环保科研的重要课题。
偶氮染料是构成工业用染料的最大一部分,这类染料的废水特点是:水量大种类多,
色度深毒性大,水质成分复杂。它们不能被好氧生物降解,而且在厌氧条件下,它们可能
被还原为具有致癌作用的芳烃胺类。传统的吸附、絮凝,以及生物氧化技术通常不能达到
净化的目的。为了高效处理印染废水,本论文将甲基橙作为研究对象,系统研究了Fenton
氧化技术处理甲基橙染料模拟废水的处理效果及影响因素;较为深入地探讨了该技术氧化
Fenton一光催化耦合技术应用的可行性进行了初步探讨。主要研究内容如下:
(1)对影响Fenton氧化降解过程的各因素的研究和分析表明:5rain后主要氧化反应过程
宜过高;适当提高甲基橙浓度并未使最终脱色率明显降低,而使COD的去除率大大降低。
mmol/L,
通过单因素分析可得:在甲基橙的初始浓度为0.15mmol/L,H202的浓度为3.9
Fe2相202=l:18,初始pH为3,反应20min后,甲基橙降解率和COD去除率可分别达到
90%和80%以上;
(2)通过对Fenton氧化理论的基础研究,求得的甲基橙降解动力学模型为:
dfRHl
=—.L--j.j=:.kmlRHl啜00*芦西1t
“‘
建立的模型和实验数据得到了较好的吻合。因此,采用该动力学模型能较好地预测
溶液中甲基橙的降解情况。H202与甲基橙初始浓度的变化均会影响反应速率常数,其关
3;
系可归纳为:kml=O.05[碣oj014和‰萨O.023一皿』都o.1
一定量的甲基橙时,有机自由基的存在可加快Fe3+的还原,并且这个还原过程亦可通过ORP
的变化来在线监钡9;此外,可根据溶液qaORP值的变化趋势来控制和调节H202的投加点:
鋈塑查兰堡主兰笙笙奎 !!坐竺墨垡竺堡!兰堡墨整壅查塑里!窒
(4) 通过在对影响光催化降解过程的各因素分析及甲基橙降解效果的比较中发现:
果。
关键词:甲基橙,Fenton氧化法,影响因素,动力学,氧化还原电位,光催化
II
Abstract
Abstract
and
Withthe of numberthe of
industry,the
rapiddevelopmentdyestuff varietydyestuff
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