电化学刻蚀方法备多孔inp研究.pdfVIP

大连理]：大学硕士研究生学位论文 摘 要 电化学刻蚀是一种设备简单、操作方便的获得微结构的方法。用这种方法可以很方 便地获得各种微结构，微结构的尺寸能够从几十纳米到数微米进行调整。例如，将电化 学刻蚀技术与光刻技术结合，可以刻蚀出硅的任意形状的微结构，这种结构可用于微机 在近十年来兴起的。迄今为止已经取得了很多可喜的成果。 们得到了很多不同的InP材料的多孔结构，包括锥状排列结构、M形孔结构、三角形孔 结构以及方孔结构。不同的结构形貌是在不同的实验条件下获得的，我们将重点讨论各 种实验条件对刻蚀结构的影响。 我们在用恒压法对InP进行电化学刻蚀的过程当中，发现了电流的周期性震荡现象， 的氧化层理论和气泡理论解释了电流的周期性震荡现象。另外，在电流周期性震荡中间 还存在着小幅电流震荡，根据H．FOil等人的理论，这可能是由于孔问的相互作用引起 的。我们在实验中还进一步研究了电压变化对电流震荡现象的影响，发现电流的周期性 震荡只在电压比较大的情况下才会产生。当电流出现周期性震荡的时候，刻蚀样品的形 貌会很不规则，但是如果电压较小，又会出现很严重的侧蚀现象。文中对这种侧蚀现象 进行了较详细的讨论。 关键词：电化学刻蚀；多孔lnP；电流震荡；侧蚀 电化学刻蚀方法制各多孔InP研究 The InPFormed ofPorous Electrochemical Study by Etching Abstract Electrochemicala methodto micro-structurewith is convenient etching get simple withsizefromtensofnanometerstoseveral kindsOfmicrostructures equipment．Many be micrometersobtainedthe method．For may by simple example，combining and Sistructurewith canbeobtainedwhichcanbeusedin photolithography，regularanyshape etching Micro-Electro-Mechanical circuit the integrate Systems(MEMS)andOc)．Inspiredby ofsilicon startedto III—Vsemiconductorsfromaboutten etching people studyporous years to havebeen lotof results obtained． now，a ago．Up delightful ThedissertationwilldiscusstheelectrochemicalofInPwhichisakindofIIl·V etching