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Architectural FunctionalGlassNo8 2015 在线Low—E玻璃的理论与实践 中国玻璃控股有限公司 刘起英 浙江大学 汪建勋 韩高荣 燕山大学 赵洪力 摘 要：采用常压化学气相沉积法(APCVD)在浮法玻璃生产线上直接制备低辐射镀膜玻璃(在线 Low—E)具有产量大、成本低、膜层硬度大、耐久性强等优点。但 由于镀膜是在移动的玻璃板上进行的， 镀膜工艺必须与浮法工艺相匹配，使得各项工艺参数的操作和优化难度很大。除了优 良的光电性能 和大面积均匀性的要求之外，还要有较高的膜层生长速率和反应气体利用率，为此，需要对镀膜过程 的热力学和动力学有深入的了解。本文对反应气体的气相化学和表面化学进行了综述，对膜层生长 速率和反应气体利用率的影响因素进行了讨论，对水和氧的作用进行了分析，已有的研究结果表明， 反应器的结构、与玻璃板的距离、气体的流速、MBTC含量、反应气体的温度等因素都对薄膜的生长 速率和利用率有影响。Ho与MBTC的分解产物一起形成了活性更高的气相中间产物，或者在表面 形成了羟基基团，促进了MBTC的表面反应。而o，的作用则是消除表面的碳 ，使得表面保持活性以 利于薄膜的沉积。 1前言 的。由于玻璃板的移动速度快，薄膜的生长受到时 采用有机金属化合物化学气相沉积法 (MOCVD)， 间的限制，只有1～3秒的时间，这就要求生长速率要 以有机金属化合物为前驱物进行薄膜沉积的方法是 快，气体流量要高。这种局限l生还造成在整个板面上 一 种很重要的材料合成工艺。特别是在玻璃工业采 的热边界层很薄，反应物的转化效率较低。为了满足 用常压化学气相沉积法(APCVD)在浮法玻璃上生产 光学均匀性，在整个板面的生长速率也要一致(板面 镀膜玻璃。氧化锡镀膜玻璃有很多有用的性能，包括 宽度甚至达到5米)。尽管沉积温度和反应物的浓度 高透明性、低电阻、红外高反射、高的机械硬度、与基 对生长速率的影响很大，但为了降低雾度和控制颜 体的结合牢固和很好的耐久l生，所以用途广泛。应用 色，使用这些变量来强化镀膜效率也要受到限制。在 领域有：窗用低辐射镀膜玻璃、太阳能电池、气体传 线镀膜系统的复杂性还在于：即包括气相中的化学反 感器、飞行器耐热组件、仪表盘防静电镀膜、电致发 应，也包括表面化学反应、还有复杂的流体动力学， 光灯管和显示器的透明电极、玻璃容器上的抗磨保护 在大规模生产线上镀膜，一旦出现偏差，代价很大。 性涂层等。每一领域的应用都要求薄膜具有一系列 所以迫切需要对薄膜的形成机理和反应过程、沉积速 不同的性能。大多数情况下都要求薄膜具有高的(可 率和反应物转化效率这些过程变量进行深入的研究， 见光)透过率和高的电导率，这就要求调整载流子的 进而达到工艺优化的目的。然而，已有的许多研究主 浓度使其具有高的迁移率。而且薄膜表面的形态(粗 要关注了低辐射玻璃光学性能、电学性能、晶体结构 糙度)是非常重要的：对于低辐射窗玻璃来说就要求 与形貌等问题，成核速率和晶体生长速率直接支配着 薄膜的表面非常光滑，而对于在太阳能电池中应用的 表面形态和表面粗糙度的变化；而这两者又与化学反 情况来说 ，薄膜表面一定程度的粗糙度对于提高光的 应、吸附以及扩散速率直接相关，可是在这方面人们 捕捉是有利的。 的认识还在发展阶段，相关的文献很少。 在线CVD镀膜是在浮法玻璃生产线上进行的大 对于工业上的CVD工艺设计，缺乏基础理论的 面积镀膜，在线镀膜的工艺优化和控制是比较困难 指导是主要问题之一