1.3 化学气相沉积要点.pptVIP

化学气相沉积 目 录 化学气相沉积乃是通过化学反应的方式，利用加热、等离子激励或光辐射等各种能源，在反应器内使气态或蒸汽状态的化学物质在气相或气固界面上经化学反应形成固态沉积物的技术。 常用三种CVD技术优缺点 CVD是一种材料表面改性技术。它利用气相间的反应，在不改变基体材料的成分和不削弱的基体材料的强度条件下，赋予材料表面一些特殊的性能。 CVD是建立在化学反应基础上的，要制备特定性能材料首先要选定一个合理的沉积反应。 用于CVD技术的通常有如下所述五种反应类型。 化学气相沉积作为20世纪60年代初前后迅速发展起来的一种无机材料制备技术，由于它设备简单，成本低廉，因而广泛用于高纯物质的制备、合成新晶体及沉积多种单晶态、多晶态无机功能薄膜材料。 这些材料可以是氧化物、硫化物、氮化物或碳化物等体系，而且它们的物理功能可以通过气相掺杂的沉积过程精确控制。 用CVD涂覆刀具能有效地控制在车、铣和钻孔过程中出现的磨损，在这里应用了硬质合金刀具和高速钢刀具。特别是车床用的转位刀片、铣刀、刮刀和整体钻头等。 使用的涂层为高耐磨性的碳化物、氯化物、碳氯化合物、氧化物和硼化物等涂层。TiN与金属的亲和力小，抗粘附能力和抗磨损性能比TiC涂层优越，因此，刀具上广泛使用的是TiN涂层。 在许多特殊环境中使用的材料往往需要有涂层保护，以使其具有耐磨，耐腐蚀，耐高温氧化和耐辐射等功能。