电镜内原位制备纳米结构的电子束诱发沉积方法作者.docVIP

电镜内原位制备纳米结构的电子束诱发沉积方法 刘志权 中国科学院金属研究所，沈阳材料科学国家（联合）实验室 随着材料精细结构的研究需求和相关理论和制造技术的发展，电镜内电子束斑的尺寸越来越小，已经能够实现纳米束斑下的原子尺度表征分析。由于电子束较小的束斑尺寸和可操作性，类似于聚焦离子束(Focused ion beam，FIB)，被看作是一种具有良好发展前景的纳米结构制造技术。其中，电子束诱导沉积(Electron beam induced deposition，EBID)是近二十年来发展较为迅速的一种聚焦电子束制造方法，可以实现电镜内纳米结构的原位制备。其原理是利用电镜的微小束斑聚焦电子，与样品室内的含金属成分气体相互作用，从而分解出金属原子沉积形成纳米结构。该方法的主要优点是：1）束斑小可以实现纳米尺寸的结构制备，且最终结构的尺度随电子束斑尺寸可调；2）制备过程可视，能够实现选定位置的原位可控制备和监测；3）电子束的可控性强，可以实现复杂图案和结构的制备；4）相对于聚焦离子束，电子束沉积不引入离子污染。 利用电子束诱发沉积方法，可以在扫描电镜、透射电镜、或扫描透射电镜(STEM)内含不同元素的有机或无机气体环境下，制备不同的纳米结构，如纳米线、纳米杆、纳米柱、纳米镊子、纳米旗等。下图所示为通过控制电子束的运行路径，一次扫描制备的含W成分的纳米人偶三维结构照片。中间为正视图，人偶约