离子束增强沉积合成zrnw纳米多层膜-中国科学杂志社.pdfVIP

中国科学 E 辑:技术科学 2007 年 第 37 卷 第 11 期: 1455~1460 SCIENCE IN CHINA PRESS 离子束增强沉积合成ZrN/W 纳米多层膜 * 李德军 张晶晶 邓湘云 王明霞 (天津师范大学物理与电子信息学院, 天津 300000) 摘要 利用离子束增强沉积方法在室温和不同能量的氮离子轰击条件下制备 了不同调制周期的ZrN/W 纳米多层膜. 利用XRD, AES 和纳米压痕仪分析了调制 周期和离子轰击能量对薄膜结构和机械性能的影响, 结果表明多层膜的机械性能 基本都优于单质的ZrN 或W 薄膜. 和其他制备条件相比, 在300 eV 能量的氮离 子轰击下制备的调制周期为8~9 nm 的多层膜, 其结构中出现了强的ZrN(111), W(110)和ZrN(220) 织构的混合, 它的硬度和弹性模量分别达到26 和310 GPa, 也 展示了较高的耐磨性. 关键词 离子束增强沉积 ZrN/W 多层膜 纳米尺度 薄膜沉积是一种用于阻止基体材料摩擦磨损、疲劳、腐蚀等众多破坏的表面改性的重要 过程[1]. 作为一种沉积技术, 离子束辅助沉积(IBAD)可以通过改变离子质量、离子能量、基材 [2,3] 温度、沉积率以及工作气压等参数获得机械性能良好的保护薄膜 . 过渡族金属氮化物因具有优良的性能而广泛用于抗摩擦磨损和抗腐蚀的保护膜材料, 但 这些性能会随着成分的不同而发生很大的变化. ZrN薄膜因为具有良好的机械性能、抗腐蚀性 和仿金色引起了人们极大的兴趣[4,5] . WN硬质薄膜则具有高熔点、高热稳定性、低摩擦和高硬 度[6~9]. 然而, 这些单质膜会随着薄膜的生长, 导致柱状晶粒生长和应力的堆积. 纳米多层膜 可以克服这一局限性, 并可以产生出不同组份性能组合的新薄膜材料[10]. 但是近期关于 ZrN/W 的合成以及结构和性能关系的研究却很少见报道. 本文利用离子束辅助沉积合成 ZrN/W 多层膜体系, 目的是研究合成的工艺参数对薄膜的微观结构和机械性能的影响. 1 实验过程 利用高真空离子束辅助沉积系统合成 ZrN/W 多层膜. 该系统有两个 Kaufman 离子源、一 个旋转水冷六工位样品台和一个旋转水冷四工位靶台构成. 通过计算机, 我们可以控制 Zr (99.9%)和 W(99.9%)靶交替地旋转至溅射位置并精确控制每个靶材的溅射时间, 从而合成不同 调制周期的多层膜. 在沉积薄膜以前, 先用低能 Ar+对样品进行溅射清洗, 轰击束流 5 mA, 时 收稿日期: 2005-10-10; 接受日期: 2006-10-24 天津市科技计划国际合作项目(批准号: 07ZCGHHZ01500)和国家自然科学基金项目(批准号:资助 * E-mail: dejunli@ 1456 中国科学 E 辑 技术科学 第 37 卷 间为 5 min, 基础真空是 3×10−4 Pa. 实验中分别用质量流量计控制通到两个离子源的 Ar 和 N2