电子束离子束资料.ppt

第九章、电子束和离子束加工 第一节、电子束加工 一、 加工原理和特点 1、原理： 在真空条件下，聚焦后能量密度极高的电子束，高速冲击工件表面的微小面积，其能量的大部分瞬间转变为热能，被冲击部分的材料温度迅速升高数千度，引起材料的局部熔化和气化。 (加速电压为50V,几分之一微妙内速度可达1.6X105KM) 2、加工特点 1） 加工面积小：最小0.1μm,是精密微细加工方法； 2）能量密度高，非机械力加工，可加工材料范围广；可加工脆性、韧性、导体、非导体、半导体； 3）生产率高，效率高（90%）； 4）加工过程自动化，控制磁场、电场、电子束强度、位置、聚焦； 5）真空状态加工，无污染，无氧化； 6） 设备成本高。 -- 工业应用 高速打孔、刻蚀、制版、焊接、热处理等。 二、电子束加工设备 ◆ 电子枪 ◆ 真空系统 ◆ 控制系统和电源 三、电子束加工的应用 1、打孔 最小直径0.001mm 孔径0.5-0.9mm，最大深度超过10 mm 厚度0.3mm，直径0.1mm孔，孔径公差9u 高速打孔：厚度0.1mm，直径0.2mm孔，3000个/秒 异形孔加工 在人造革、塑料上打孔（同时打200个） 2）焊接 焊缝深而窄，热影响区小，焊缝物理性能好 在真空中进行，化学成分纯净，强度高 适于碳钢、合金钢、不锈钢、高熔点金属、异种材料等 精加工后进行焊接 3）热处理 加热速度、冷却速度高，获得超细晶粒组织，硬度高 电热转换效率高90%（与激光相比7-10%） 真空中，防止材料氧化 添加金属，金属表面形成很薄新的合金层。 第二节、离子束加工 一、离子束加工的基本原理和特点 1、基本原理 在真空条件下，加速聚焦后能量密度极高的离子束，以较高速度冲击工件表面，依靠微观的机械撞击能量，对零件进行加工，加工精度可达纳米。 2、加工特点 加工面积小：离子刻蚀能够达到纳米级加工精度； 非机械力加工，可加工材料范围广； 生产率高； 加工过程自动化； 真空状态加工，无污染，无氧化； 设备成本高。 -- 工业应用 离子刻蚀（离子铣削）； 离子镀膜； 离子注入。 二、离子束加工设备 三、离子束加工的应用 1、离子刻蚀 2、离子镀膜加工（包括溅射镀膜和离子镀） 离子溅射沉积镀膜 3、离子注入加工 -- 与电子束加工的异同处相同处： 加工原理、加工条件类似 不同处：离子/电子； 离子质量远远大于电子（氩离子的质量为电子的7.2万倍），离子束具备远远高于电子束的动能；力效应（不产生热量）/热效应 * * 电子枪发射阴极用钨或袒制成，加热状态下发射大量电子。 加工玻璃、陶瓷、宝石等（预热） 加工形孔、形面 加工弯孔、曲孔、斜孔、切割、开槽 4）电子束曝光 利用低功率密度的电子束照射称为电致抗蚀剂的高分子材料，由入射电子与高分子材料相碰撞，使分子链被切断或重新聚合而引起分子量的变化，也称为电子束光刻。 离子束加工示意图 a离子刻蚀：离子斜射到工件 表面时，将表面原子撞击出来 b溅射沉积（c离子镀）：工件放在靶材附件，靶材原子会溅射到工件表面，而被溅射吸附，工件表面镀上一层靶材原子薄膜。 d离子注入：离子能量足够大并垂直工件表面撞击时，离子就钻进工件表面。 ◆ 离子源 ◆ 真空系统 ◆ 控制系统和电源 将待电离气体注入电离室，使气态原子与电子发生碰撞而被电离，从而得到等离子体。 离子刻蚀 通过用能量为0.5-5KeV的离子轰击工件，将工件材料原子从工件表面去除的工艺过程。 例：高速钢刀具上镀氮化钛硬质膜。 齿轮齿面镀二硫化钼润滑膜，厚度0.2u, F=0.04 制造薄壁零件： 10元素，壁厚仅为63.5um。 （1）溅射镀膜 （2）离子镀 不仅接受靶材溅来的原子，还受离子的轰击。 例：高速钢刀具上镀氮化钛、碳化钛等硬质材料，寿命提高1-2倍。 可以得到钨、钼、钽、铌、铍及氧化铝耐热膜。 TiN, TaN, TaC VN等膜具有黄金相似的色彩。 在几十至几百千伏的电压下，把所需元素的离子注入工件表面。注入量可精确控制。 例：P N节 改善金属材料耐磨性 提高金属材料硬度 提高材料耐腐蚀性 提高疲劳强度 改善金属材料润滑性能