第三章纳米材料的制备方法.解读.pptVIP

纳米材料的主要形式 各种纳米结构 加工方法 3.1 纳米粒子制备方法 2，纳米粒子制备方法分类 （1）纳米粒子合成的物理方法 纳米粒子合成的物理方法 A 粉碎法 B 机械粉碎法 C 构筑法 D 蒸发凝聚法 E 离子溅射法 F 冷冻干燥法 G 其他物理方法 （2）纳米粒子合成的化学方法 A 气相反应法 B 气相分解法 C 气相合成法 D 液相反应法 E 沉淀法* F 喷雾法* G 喷雾干燥法* J 水热法 K 溶胶－凝胶法 3.2 一维纳米材料制备方法 一维纳米材料制备方法 3.3 纳米薄膜制备方法 3.4 纳米固体材料制备方法 3、纳米金属与合金材料制备方法* 4 纳米陶瓷材料制备方法* 3.5 其它纳米结构的制备方法 几种典型的纳米材料合成技术 共沉淀法 均相沉淀法 水解沉淀法 无机盐水解法 金属醇盐水解法 溶剂热法 微乳液法 辐射化学合成法 H 喷雾水解法* I 喷雾焙烧法* 除了易升华的MgO、ZnO和纳米离子化合物可用“一步法”直接蒸发形成纳米微粒，然后原位加压成生坯外，大多数纳米氧化物陶瓷生坯制备采用“两步法”。“两步法”的基本过程如下：第一步是在惰性气体中(高纯He)蒸发金属，形成的金属纳米粒子附着在冷阱上；第二步是引入活性气体，例如氧，压力为约103Pa，使冷阱的纳米金属粒子急剧氧化形成氧化物，然后将反应室中氧气排除，达到约10-5Pa真空度，用刮刀将氧化物刮下，通过漏斗进入压结装置。压结可在室温或高温下进行，由此得到的生坯，经无压力烧结或应力有助烧结，可获得高致密度陶瓷。由于惰性气体冷凝法制备的纳米相粉料无硬团聚，因此在压制生坯时，即使在室温下进行，生坯相对密度也能达到约75%～85%。高致密度的生坯经烧结，能够获得高密度纳米陶瓷。 3)、微波烧结 纳米陶瓷在烧结过程中，即使在高温段停留时间很短，纳米相晶粒就长大到近一个数量级。要使晶粒不过分长大，必须采用快速升温、快速降温的烧结方法。而微波烧结可满足此要求，微波烧结的升温速度快(500℃/min)，升温时间短(2 min)。而且微波加热更具有热效率高，节能效果明显。 微波烧结工艺的关键是解决烧结温度的均匀性和防止局部过热现象。目前国内的设备生产企业、高校及研究所等正进行微波烧结工艺的探索。 纳米压印术是软刻印术的发展，它采用绘有纳米图案的刚性压模将基片上的聚合物薄膜压出纳米级图形，再对压印件进行常规的刻蚀、剥离等加工，最终制成纳米结构和器件。它可以大批量重复性地在大面积上制备纳米图形结构，并且所制出的高分辨率图案具有相当好的均匀性和重复性。该技术还有制作成本极低、简单易行、效率高等优点。因此，与极端紫外线光刻、X射线光刻、电子束刻印等新兴刻印工艺相比，纳米压印术具有不逊的竞争力和广阔的应用前景。目前，这项技术最先进的程度已达到5 nm以下的水平。 纳米压印 (nanoimprint) 技术 Fabrication of Nanoimprint Mold by scanning probe oxidation (SPO) and Anisotropic Wet Etching 扫描探针氧化和非等向性湿式蚀刻制备纳米压模 Varied 2D Structures on Si(100) Surface Varied 2D Structures on Si(110) Surface Schematic Illustration for Fabrication of 3D Silicon-based Nanostructures Typical 3D Silicon Structures 纳米压印技术 反应离子刻蚀 Reaction Ion Etching Chou, Krauss, and Renstrom, APL, 67, 3114 (1995); Science, 272, 85 (1996) Obducat Company, Sweden (2.5 inch Model) High resolution Low cost High throughput Morpho butterfly (蓝默蝶 ) Template from Nature Photonic Crystal (光子晶体) Subwavelength Antireflective Structures (亚波长抗反射结构) Chlorocara africana ssp. Oertzeni (一种非洲昆虫) 澳宝石Opal(猫眼石) Cicada (蝉) Schematic of Nanoimprinting with Cicada Wings RIE SEM and AFM Images of Negative Structures o