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电解法是又一种制取金属粉末的方法,它的基本原理和电镀相同。Fe、Ni、Cr、Cu、Zn等的粉末,都可用电解法制造。 电解铁粉与铜粉都是用电解金属盐的水溶液制造的。它们有时直接呈粉状析出,有时需将电解析出物进一步机械粉碎,以制成粉末。 电解粉末纯度高,颗粒呈树枝状或针状,其压制性和烧结性都很好,但生产率低,成本高。 纯铜粉大多是用该法制成。电解铁粉由于价格高,仅用于要求纯度高或制造高密度零件的场合。 以铜粉制备为例,水溶液一般为硫酸铜和少许硫酸,阳极为铜板。在阳极,铜将失去电子变成离子进入溶液,OH-失去电子变成水和氧气: Cu→Cu2++2e 2OH-2e→H2O+O2↑ 而在阴极,铜离子得到电子析出铜,氢离子得到电子放出氢气: Cu2++2e→Cu 2H++2e→H2↑ 铜离子在阴极析出可以有两种形式,即电镀层和铜粉。一般电解液中铜离子浓度较低、电流密度较强时易得到铜粉。 根据电解法的原理可知,经此法制得的粉料纯度高。另外粉料粒形多呈树枝状,故压制性能也较好。但其成本较高,因制备过程控制较为复杂、耗电量大。 电阻加热蒸发 激光加热蒸发 电子束加热蒸发 高频感应加热蒸发 三、粉末的化学制备方法 液相沉淀法 化学气相沉积法(CVD) 还原反应法 电解法 液相沉淀法 主要原理:在液相中采用各种水溶性化合物经混合、发生化学反应生成不溶于水的沉淀,将沉淀洗涤并热分解可形成超细粉。 沉淀法可以分为直接沉淀法、均匀沉淀法和共沉淀法等。 1 直接沉淀法 向盐溶液中直接加入沉淀剂进行反应得到细小沉淀物的方法。 2 均匀沉淀法 依靠溶液内部缓慢均匀地生成沉淀剂而进行沉淀反应的方法。 (例如:尿素水解制备盐类) (NH2)2CO十3H2O?2NH4OH(沉淀剂)十CO2 3 共沉淀法 在溶液中同时沉淀两种或两种以上金属离子得到均匀性好的复合氧化物的方法。 例:在氨水溶液中制备氢氧化锆-氢氧化钇复合粉体。 ZrOCl2十4NH4OH?Zr(OH)4?十2NH4Cl十2NH3十H2O YCl3十3NH4OH?Y(OH)3?十3NH4Cl CVD法 主要原理:利用挥发性化合物的蒸气通过分解或相互反应合成所需粉体的方法。 1)分解沉积: CH3SiCl3 (↑) → SiC (↓) + 3HCl (↑) 2)反应沉积: TiCl4 (↑) + CH4 (↑) → TiC (↓) + 4HCl (↑) 还原反应法 基本原理:MeO+X(还原剂)=Me(金属)+XO 方法: ① 碳还原法:如:FeO+C → Fe +CO ② 气体还原法:如:Fe2O3+3CO→2Fe+3CO2 ③ 金属还原法:如:MeX+Me’→Me’X+Me (式中:Me’—还原剂;MeX—被还原的化合物) ④ 还原-化合法:如:MeO+2C→MeC+CO 目前铁粉大部分由还原法生产。 电解法 * 从制备方法的原理可以分为三大类: 机械制备 物理制备 化学制备 物理制备 粉末的制备 一、粉末的机械制备方法 机械制粉方法的实质就是利用动能来破坏材料的内部结合力,使材料分裂产生新的界面。 分为研磨、锤捣、辊轧等 机械研磨(球磨) 研磨 气流研磨 球磨法 四个基本要素 球磨筒、磨球、研磨物料、研磨介质 基本原理 (球磨筒)传递机械能?(磨球、球磨物料及介质)产生正向冲击力、侧向挤压力、摩擦力等?(物料)细化(脆性粉末颗粒:大颗粒的不断破碎过程;塑性较强粉末:存在着磨削、变形、加工硬化、断裂和冷焊等行为。) 提高球磨效率的基本原则 (1)动能准则:提高球磨的动能。?? (2)碰撞几率准则:提高球磨的有效碰撞几率。 球磨方式分类 滚筒式球磨 振动球磨 搅拌球磨 不同球磨方式的运动特征 球和物料随球磨筒转速不同的三种状态 转速和载荷低 转速和载荷适中 转速快 离心力>重力,球与筒体一起转动无研磨效果 临界转速 只发生研磨体滑动,粉碎靠筒和球体表面摩擦 泻落状态 抛落状态 粉碎靠球落下时的冲击作用和球与球间的摩擦 离心力 重力 效果最好 滚筒式球磨 振动球磨 工作原理: 振动球磨机结构示意图 1—筒体;2一偏心轴;3一马达; 4一弹簧
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