浸没式光刻技术精要.docVIP

浸没式光刻技术 摘要：光刻工艺直接决定了大规模集成电路的特征尺寸，是大规模集成电路制造的关键工艺。作为光刻工艺中最重要设备之一，光刻机一次次革命性的突破，使大模集成电路制造技术飞速向前发展。因此，了解光刻技术的基本原理，了解提高光刻机性能的关键技术以及了解下一代光刻技术的发展情况是十分重要的。本文就以上几点进行了简要的介绍。 沉浸式光刻技术是在传统的光刻技术中，其镜头与光刻胶之间的介质是空气，而所谓浸入式技术是将空气介质换成液体。实际上，浸入式技术利用光通过液体介质后光源波长缩短来提高分辨率，其缩短的倍率即为液体介质的折射率。沉浸式光刻技术是在传统的光刻技术中，其镜头与光刻胶之间的介质是空气，而所谓浸入式技术是将空气介质换成液体。实际上，浸入式技术利用光通过液体介质后光源波长缩短来提高分辨率，其缩短的倍率即为液体介质的折射率。 关键词：沉浸式光刻、大规模集成电路、折射率 目录 浸没式光刻技术 1 目录 2 第一章 背景 3 1.1 概论 3 第二章 光刻技术 4 2.1 193nm浸没式光刻技术 4 2.1.1浸没液体（积淀、气泡、光吸收） 5 2.1.2液体浸没方式(局部浸没法) 5 2.1.3大数值孔径投影物镜的设计（折反式投影物镜） 7 2.1.4 偏振光照明(无损偏振光照明系统) 8 2.1.5液体温度变化带来的影响(热量累积效应) 9 2.1.6气泡的消除(曝光缺陷)