OLED简介资料讲解.ppt

脉冲灰度调制 脉冲１是选通所有像素的脉冲，则与脉冲１选通脉宽相同的数据脉宽将对应最高的亮度，一般也将对应最高灰度级数据脉宽，把最高灰度级数据脉宽４等分，则脉冲３和脉冲４将分别对应灰度２级和灰度１级 这种调制方法不仅可以在一个像素上实现灰度调制，而且可以很容易地通过数字电路控制将灰度信息携带在列信号脉冲上，非常方便 人有了知识，就会具备各种分析能力， 明辨是非的能力。 所以我们要勤恳读书，广泛阅读， 古人说“书中自有黄金屋。 ”通过阅读科技书籍，我们能丰富知识， 培养逻辑思维能力； 通过阅读文学作品，我们能提高文学鉴赏水平， 培养文学情趣； 通过阅读报刊，我们能增长见识，扩大自己的知识面。 有许多书籍还能培养我们的道德情操， 给我们巨大的精神力量， 鼓舞我们前进。 * １、ＩＴＯ玻璃基片清洗与表面预处理 有基层与ＩＴＯ之间界面对发光性能的影响非常重要，ＩＴＯ玻璃使用前必须仔细清洗，以彻底去除基片表面的污染物 污染物通常分为４类：①有形颗粒，如尘埃②有机物质，如油脂和涂料等③无机物质，如碱、盐和锈斑等④微生物机体 清除基片表面污染物的方法：化学清洗法、超声波清洗法、紫外光清洗法，真空烘烤法及离子轰击法 ２、阴极隔离柱技术 为了实现无源矩阵ＯＬＥＤ的高分辨率和彩色化，更好地解决阴极模板分辨率低和器件成品率低等问题，人们在研究中引入了阴极隔离柱结构。 即在器件制备中不使用金属模板，而是在蒸镀有机薄膜和金属阴极之前，在基板上制作绝缘的间壁，最终实现将器件的不同像素隔开，实现像素阵列 在隔离柱制备中，绝缘的无机材料、有机聚合物材料和光刻胶等材料都被广泛采用，目前采用有机绝缘材料和光刻胶的ＯＬＥＤ隔离柱制备工艺比较成熟。隔离柱的形状是隔离效果关键。　 倒梯形隔离柱结构 倒梯形隔离柱结构中，使用了绝缘缓冲层来解决同一像素间的短路问题，同时使用倒立梯形的隔离柱来解决相邻像素间的短路问题。由于倒立结构的存在，可以比较好地发挥绝缘柱的遮蔽效果，从而有利于实现批量生产 隔离柱的作法： （１）在透明基片上旋涂第一层光敏有机绝缘材料，厚度为０．５～５ｕｍ，一般为光敏型ＰＩ、前烘后曝光，曝光图形为网状结构或条状结构，线条的宽度由显示分辨率即像素之间间隔决定，显影后线宽为１０～５０ｕｍ，然后进行后烘。 （２）　在有机绝缘材料上旋涂第二层光敏型有机绝缘材料，膜厚为０．５～５ｕｍ，一般为光刻后线条横截面能形成上大下小倒梯形形状的光刻胶中的一种，一般为负型光刻胶，前烘后对第二层有机绝缘体材料进行曝光，曝光图形为直线条，显影后的线宽为５～４５ｕｍ ３．有机薄膜或金属电极的制备 小分子ＯＬＥＤ器件通常采用真空蒸镀法制备有机薄膜和金属电极，其具体操作过程是在真空中加热蒸发容器中待形成薄膜的原材料，使其原子或分子从表面气化逸出，形成蒸汽流，入射到固体衬底或基片的表面形成固态薄膜 该过程中真空度对薄膜质量有很大影响。 如果真空度太低，有机分子将与大量空气分子碰撞，使膜层受到严重污染，甚至被氧化烧毁；此条件下沉积的金属往往没有光泽，表面粗糙，得不到均匀连续的薄膜 ４．彩色化技术 小分子ＯＬＥＤ全彩色显示技术方面，实现彩色化的方法有光色转换法、彩色滤光薄膜法、独立发光材料法等三种 ＲＧＢ分别蒸镀工艺方式是通过以红绿蓝三色为独立发光材料进行发光，是目前ＯＬＥＤ彩色化常用的工艺方法，其关键技术是蒸镀ＲＧＢ有机功能薄膜所用的精密模板。常用的制备模板方法有电镀法和刻蚀法。其中电镀法形成的模板精度很高但容易损坏，不容易清洗。刻蚀法的精度由于工艺难以提高 彩色滤光薄膜法是以白色为背光源材料，透过类似ＬＣＤ彩色滤光片来达到全彩色效果，这种方法可以使用ＬＣＤ彩色滤光片技术，其关键在于白色光远和彩色滤光薄膜的成本 光色转换法主要利用蓝光为发光光源，经光色转换薄膜将蓝光分别转换成红光或蓝绿光而实现红绿蓝三色光，蓝光发光材料随不需要制造对应像素的图形，但光色转换薄膜需要制作对应像素的图形。此种方法转换率是关键，发光效率优于彩色滤光薄膜法，但不如三色独立发光材料法 ５．ＯＬＥＤ的封装技术 对水氧极为敏感，因此封装技术直接影响器件的稳定性和寿命 １、封装技术 主要有３种技术：金属盖封装、玻璃基片封装，薄膜封装。 目前常用的封装技术是玻璃基片封装。用带有凹槽的玻璃基片与ＯＬＥＤ基片压合在一起 玻璃封装片的加工有两种方法，一种是喷砂，另一种采取腐蚀方式。　 ２、吸水材料：ＯＬＥＤ器件要求氧气的透过率为１０－３ｃｃ／ｍ２／ｄ以下，水气透过率为１０－６ｇ／ｍ２／ｄ以下 水气来源有经由外在环境渗透进入器件内，或是在ＯＬＥＤ工艺中被每一层物质吸收的水汽。为了减少水汽进入组件或排除由工艺中吸附的水汽，一般最常用的物质为吸水材料，可以利用化学吸附或物理吸附的方式捕捉自由移动的水分子，以达到去除组件内水汽的目的 干燥剂和