a-C：H膜的高真空磨损失效机制研究――应力的影响.pdfVIP

第 ３３卷　第５期 摩 擦 学 学 报 Ｖｏｌ３３　Ｎｏ５ ２０１３年９月 Ｔｒｉｂｏｌｏｇｙ Ｓｅｐｔ，２０１３ ａ－Ｃ∶Ｈ膜的高真空磨损失效机制研究 ———应力的影响 １，２ １ １ １ １ １ １ 吴艳霞 ，李红轩 ，吉　利 ，冶银平 ，孙晓军 ，陈建敏 ，周惠娣 （１中国科学院兰州化学物理研究所 固体润滑国家重点实验室，甘肃 兰州　７３００００； ２中国科学院北京研究生院，北京　１０００４９） 摘　要：采用中频非平衡磁控溅射法沉积了含氢无定形碳（ａ－Ｃ：Ｈ）薄膜，利用球－盘摩擦试验机考察了不同载荷 －３ 下薄膜在高真空中（５０×１０ Ｐａ）的摩擦磨损行为，通过对磨损表面的分析以及相关的验证实验，探讨了应力（接 触应力、薄膜内应力）对薄膜在高真空中摩擦磨损行为的影响．结果表明：在高真空中，随着载荷的增加，薄膜的摩 擦系数逐渐降低，而耐磨寿命却急剧缩短；在高真空高接触应力下，无论是摩擦还是静压，薄膜表面均出现了明显的 应力释放花样．因此可以认为，薄膜在高真空中的磨损失效与其在高接触应力下的内应力释放有密切关系． 关键词：含氢无定形碳（ａ－Ｃ∶Ｈ）膜；高真空；摩损失效；应力 中图分类号：ＴＨ１１７３ 文献标志码：Ａ 文章编号：１００４－０５９５（２０１３）０５－０５０１－０６ ＴｈｅＷｅａｒＦａｉｌｕｒｅＭｅｃｈａｎｉｓｍｏｆａ－Ｃ∶ＨＦｉｌｍｉｎＨｉｇｈＶａｃｕｕｍ ———ＥｆｆｅｃｔｏｆＳｔｒｅｓｓ １，２ １ １ １ １ ＷＵＹａｎ－ｘｉａ ，ＬＩＨｏｎｇ－ｘｕａｎ ，ＪＩＬｉ，ＹＥＹｉｎ－ｐｉｎｇ，ＳＵＮＸｉａｏ－ｊｕｎ， １ １ ＣＨＥＮＪｉａｎ－ｍｉｎ，ＺＨＯＵＨｕｉ－ｄｉ （１．ＳｔａｔｅＫｅｙＬａｂｏｒａｔｏｒｙｏｆＳｏｌｉｄＬｕｂｒｉｃａｔｉｏｎ，ＬａｎｚｈｏｕＩｎｓｔｉｔｕｔｅｏｆＣｈｅｍｉｃａｌＰｈｙｓｉｃｓ， ＣｈｉｎｅｓｅＡｃａｄｅｍｙｏｆＳｃｉｅｎｃｅｓ，Ｌａｎｚｈｏｕ７３００００，Ｃｈｉｎａ ２．ＧｒａｄｕａｔｅＳｃｈｏｏｌｏｆＣｈｉｎｅｓｅＡｃａｄｅｍｙｏｆＳｃｉｅｎｃｅｓ，Ｂｅｉｊｉｎｇ１０００４９，Ｃｈｉｎａ） Ａｂｓｔｒａｃｔ：Ｔｈｅａｍｏｒｐｈｏｕｓｈｙｄｒｏｇｅｎａｔｅｄｃａｒｂｏｎ（ａ－Ｃ∶Ｈ）ｆｉｌｍｗａｓｄｅｐｏｓｉｔｅｄｂｙｍｅｄｉｕｍｆｒｅｑｕｅｎｃｙｕｎｂａｌａｎｃｅｄｍａｇｎｅｔｒｏｎ －３ ｓｐｕｔｔｅｒｉｎｇＴｈｅｔｒｉｂｏｌｏｇｉｃａｌｐｒｏｐｅｒｔｉｅｓｏｆｔｈｅｆｉｌｍｉｎｈｉｇｈｖａｃｕｕｍ（５０×１０ Ｐａ）ｕｎｄｅｒｄｉｆｆｅｒｅｎｔａｐｐｌｉｅｄｌｏａｄｓｗｅｒｅ ｅｖａｌｕａｔｅｄｂｙｕｓｉｎｇａｐｉｎ－ｏｎ－ｄｉｓｋｔｒｉｂｏｍｅｔｅｒＴｈｅｉｎｆｌｕｅｎｃｅｏｆｓｔｒｅｓｓ（ｃｏｎｔａｃｔｓｔｒｅｓｓａｎｄｉｎｔｅｒｎａｌｓｔｒｅｓｓ）ｏｎｖａｃｕｕｍ