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麻省理工学院_19203
3.155J/6.152J 课件 10:
光刻 Part 1
Prof. Martin
A. Schmidt
麻省理工学院
10/8/2003
1
要点
? 光刻工艺
?基本步骤
?具体解说
?曝光的基本原理
?曝光系统
?光刻胶
?先进的光刻技术
?建议阅读以下章节:
? Plummer, Ch 5
? 其它: Campbell, Ch 7,8,9
秋季课程 2003 M.A. Schmidt 3.155J/6.152J 课件 10 Slide 2
2
IC 工艺
电路设计 掩膜
工艺模拟
一个想法 器件模拟 产生文件 制造
设计
封装
设计标准
圆片
圆片 制造
秋季课程 2003 M.A. Schmidt 3.155J/6.152J 课件 10 Slide 3
3
圆片制造 光刻
? 光刻是最复杂、昂贵和关键的工艺
? # 掩膜, 最小特征尺寸 (例子)
? 整个工艺步骤的50%都是光刻工艺
? 受以下参数影响
? 清洁
? 振动
? 温 和湿
秋季课程2003 M.A. Schmidt 3.155J/6.152J 课件 10 Slide 4
4
3.155J/6.152J 课件 10 Slide 5
5
图形转移
涂 胶
曝光
掩膜
显影
刻蚀
去 胶
湿法刻蚀
秋季课程2003 M.A. Schmidt 3.155J/6.152J 课件 10 Slide 6
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