直流磁控溅射制备TiAlCN薄膜及其性能研究.pdfVIP

第 ３３卷　第 １期 摩 擦 学 学 报 Ｖｏｌ３３　Ｎｏ１ ２０１３年 １月 Ｔｒｉｂｏｌｏｇｙ Ｊａｎ，２０１３ 直流磁控溅射制备ＴｉＡｌＣＮ薄膜及其性能研究 １，２ １ １，２ １，２ １ 郑建云 ，郝俊英 ，刘小强 ，龚秋雨 ，刘维民 （１．中国科学院兰州化学物理研究所 固体润滑国家重点实验室，甘肃 兰州　７３００００； ２．中国科学院大学，北京　１０００４９） 摘　要：采用直流磁控溅射技术制备ＴｉＡｌＣＮ薄膜，研究了直流电流对ＴｉＡｌＣＮ薄膜的薄膜成分、微观结构、机械性 能和摩擦性能的影响．研究表明：随着直流电流的增加，薄膜中Ｃ元素含量逐渐降低；薄膜中无定形碳含量减少，而 （Ｔｉ，Ａｌ）ＣＮ 晶粒增加．另外，在低于３．０Ａ直流电流范围内薄膜的表面粗糙度无明显变化，而当直流电流高于 ｘ １－ｘ ３０Ａ时，薄膜的表面粗糙度随直流电流的增加而显著上升．随着直流电流的增大，薄膜的硬度先增加后降低，而薄 膜的摩擦系数则先降低后升高．在直流电流为３．５Ａ时，薄膜的硬度和摩擦系数分别约为２２．２ＧＰａ和０．１６． 关键词：直流磁控溅射；ＴｉＡｌＣＮ薄膜；微观结构；硬度；摩擦行为 中图分类号：ＴＧ１３５＋．５ 文献标志码：Ａ 文章编号：１００４－０５９５（２０１３）０１－００８５－０６ ＰｒｏｐｅｒｔｉｅｓｏｆＴｉＡｌＣＮＦｉｌｍｓＰｒｅｐａｒｅｄｂｙＤｉｒｅｃｔ ＣｕｒｒｅｎｔＭａｇｎｅｔｒｏｎＳｐｕｔｔｅｒｉｎｇ １，２ １ １，２ １，２ １ ＺＨＥＮＧＪｉａｎ－ｙｕｎ ，ＨＡＯＪｕｎ－ｙｉｎｇ，ＬＩＵＸｉａｏ－ｑｉａｎｇ ，ＧＯＮＧＱｉｕ－ｙｕ ，ＬＩＵＷｅｉ－ｍｉｎ （１．ＳｔａｔｅＫｅｙＬａｂｏｒａｔｏｒｙｏｆＳｏｌｉｄＬｕｂｒｉｃａｔｉｏｎ，ＬａｎｚｈｏｕＩｎｓｔｉｔｕｔｅｏｆＣｈｅｍｉｃａｌＰｈｙｓｉｃｓ，ＣｈｉｎｅｓｅＡｃａｄｅｍｙｏｆＳｃｉｅｎｃｅｓ， Ｌａｎｚｈｏｕ７３００００，Ｃｈｉｎａ ２．ＧｒａｄｕａｔｅＳｃｈｏｏｌｏｆＣｈｉｎｅｓｅＡｃａｄｅｍｙｏｆＳｃｉｅｎｃｅｓ，Ｂｅｉｊｉｎｇ１０００４９，Ｃｈｉｎａ） Ａｂｓｔｒａｃｔ：ＴｉＡｌＣＮｆｉｌｍｓｗｅｒｅｄｅｐｏｓｉｔｅｄｂｙｄｉｒｅｃｔｃｕｒｒｅｎｔｍａｇｎｅｔｒｏｎｓｐｕｔｔｅｒｉｎｇｉｎｏｒｄｅｒｔｏｓｔｕｄｙｔｈｅｃｏｍｐｏｓｉｔｉｏｎ， ｍｉｃｒｏｓｔｒｕｃｔｕｒｅ，ｍｅｃｈａｎｉｃａｌａｎｄｔｒｉｂｏｌｏｇｉｃａｌｐｒｏｐｅｒｔｉｅｓａｓａｆｕｎｃｔｉｏｎｏｆｄｉｒｅｃｔｃｕｒｒｅｎｔ．Ｔｈｅｒｅｓｕｌｔｓｓｈｏｗｔｈａｔｗｉｔｈｔｈｅｉｎｃｒｅａｓｅ ｏｆｔｈｅｄｉｒｅｃｔｃｕｒｒｅｎｔ ，ｔｈｅｒｅｌａｔｉｖｅｃｏｎｔｅｎｔｓｏｆｅｌｅｍｅｎｔＣｒｅｄｕｃｅｄｇｒａｄｕａｌｌｙ，ｔｈｅｃｏｎｔｅｎｔｓｏｆｔｈｅａｍｏｒｐｈｏｕｓｃａｒｂｏｎｉｎｔｈｅｆｉｌｍ ｄｅｃｒｅａｓｅｄａｎｄｔｈｅ（Ｔｉ，Ａｌ）ＣＮ ｃｒｙｓｔａｌｇｒａｉｎｉｎｃｒｅａｓｅｄ．Ｉｎａｄｄｉｔｉｏｎ，ｔｈｅｓｕｒｆａｃｅｒｏｕｇｈｎｅｓｓｏｆｔｈｅｆｉｌｍｗａｓａｌｍｏｓｔｓｔｅａｄｙ ｘ １－ｘ ｕｎｄｅｒａｄｉｒｅｃｔｃｕｒｒｅｎｔｏｆ３Ａ，ａｎｄｃｏｎｖｅｒｓｅｌｙ，ｔｈｅｓ